发明名称 一种多窗口宽带增透PS-SiO<SUB>2</SUB>薄膜及其制备方法
摘要 本发明属光学薄膜材料技术领域,具体为一种新型多窗口宽带增透ps-SiO<SUB>2</SUB>薄膜及其制备方法。该薄膜通过sol-gel法在形成SiO<SUB>2</SUB>溶胶后加入聚苯乙烯(PS),热处理旋涂成膜。与以往各类改性的SiO<SUB>2</SUB>增透膜相比该类增透膜实现了宽带增透,掺入不同分子量的PS后在351nm,527nm和1054nm均有高的透光率,最高值均超过了98%,是极佳的KDP晶体增透膜的候选替换材料,可在高能核聚变模拟实验的超强激光系统中获得应用。
申请公布号 CN100346176C 申请公布日期 2007.10.31
申请号 CN200510027779.7 申请日期 2005.07.15
申请人 复旦大学 发明人 彭波;蒋蕾;郭睿倩
分类号 G02B1/00(2006.01);G02B1/11(2006.01) 主分类号 G02B1/00(2006.01)
代理机构 上海正旦专利代理有限公司 代理人 陆飞;盛志范
主权项 1、一种多窗口宽带增透PS-SiO2薄膜,其特征在于由SiO2溶胶中掺入聚苯乙烯组成,聚苯乙烯占SiO2溶胶质量的0.056-0.070%;并且由下述制备过程获得:首先用sol-gel法制备SiO2溶胶,原料为正硅酸乙酯、无水乙醇和聚乙二醇,在碱性条件下催化,各组份的质量百分比含量为正硅酸乙酯:7-8%,无水乙醇:60-65%,其余为聚乙二醇;将所得SiO2溶胶陈化,然后将溶入乙醚的聚苯乙烯与SiO2溶胶混合均匀,用旋涂法成膜,转速为2000-4000转/秒,时间为1分钟;最后,膜层在150-250℃下热处理6-8小时。
地址 200433上海市邯郸路220号