用于光刻技术加工的表面涂层

摘要

本发明提供一种表面涂层组合物，该表面涂层组合物包括由至少一种硅源的水解反应和缩合反应而制备的含硅聚合物、溶剂、任选的催化剂和任选的水，其中含硅聚合物在暴露到水性含碱溶液时，发生解聚反应。

主权项

1、用于制造在光刻工艺中使用的一种可解聚的表面涂层材料的方法，该方法包括：邻接光刻胶层施加组合物的层，该组合物包括由溶胶-凝胶处理至少一种硅源所制备的含硅聚合物；以及使表面涂层材料的层经受大约50到大约200℃的温度，其中在暴露于水性含碱溶液中时，表面涂层材料中的含硅聚合物发生解聚作用。