| 发明名称 | 半导体晶片的清洗溶液及内连线结构的形成方法 | ||
| 摘要 | 本发明提供一种半导体晶片的清洗溶液及集成电路的内连线结构的形成方法，上述半导体晶片的清洗溶液，包括：有机溶剂；金属试剂；置换剂；以及水。 | ||
| 申请公布号 | CN101063065A | 申请公布日期 | 2007.10.31 |
| 申请号 | CN200710005732.X | 申请日期 | 2007.02.13 |
| 申请人 | 台湾积体电路制造股份有限公司 | 发明人 | 周俊利;谢志宏;章勋明 |
| 分类号 | C11D7/50(2006.01);H01L21/768(2006.01);C11D7/26(2006.01) | 主分类号 | C11D7/50(2006.01) |
| 代理机构 | 隆天国际知识产权代理有限公司 | 代理人 | 高龙鑫 |
| 主权项 | 1.一种半导体晶片的清洗溶液，包括：有机溶剂；金属试剂；置换剂；以及水。 | ||
| 地址 | 中国台湾新竹市 | ||