| 发明名称 | 通过掩膜曝光生成三维对象的设备和方法 | ||
| 摘要 | 本发明描述了通过经包含预定个分立成像元件(像素)的成像单元输入的能量，在电磁辐射的作用下固化可固化材料，生成三维对象的设备和方法。通过多个相继光栅掩膜(位图；例如，位图1和位图2和可能附加位图)进行曝光，控制与三维对象的特定横断区有关的能量输入。成像单元可适当控制成至少可以生成两个掩膜，包括覆盖横断区的第一总掩膜(位图1；用白光曝光的专用于像素区域元件)；和总掩膜内的局部掩膜(位图2；其中，用白光专用于像素地只曝光一部分区域元件)。可以形成体素矩阵。可以在可固化材料中具体和精确地影响每个体素(体像素)的硬化深度。 | ||
| 申请公布号 | CN101063812A | 申请公布日期 | 2007.10.31 |
| 申请号 | CN200710101018.0 | 申请日期 | 2007.04.23 |
| 申请人 | 想象科技有限公司 | 发明人 | 亨德里克·约翰;沃尔科尔·希勒恩;阿里·埃尔－斯博兰尼 |
| 分类号 | G03F7/00(2006.01);G03F7/20(2006.01);B29C67/00(2006.01) | 主分类号 | G03F7/00(2006.01) |
| 代理机构 | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人 | 康建忠 |
| 主权项 | 1.一种生成三维对象的设备，包含：用于能量输入能够在电磁辐射的作用下固化可固化材料、和包含预定个分立成像元件(像素)的成像单元；计算机单元、IC和/或软件实现；其中，计算机单元、IC和/或软件实现分别具有针对要生成的三维对象的横断区，通过多个相继光栅掩膜(位图)进行曝光控制能量输入的能力。 | ||
| 地址 | 德国格拉德贝克 | ||