| 发明名称 | 保护膜形成用材料 | ||
| 摘要 | 提供一种将埋入材料向通孔中填充时，埋入性和平坦性都优异的保护膜形成用材料，其特征是：含有有机溶剂和至少具有2个以上的脂环结构的化合物。另外，作为上述化合物，可以是从螺环烃化合物、二环单萜烯化合物、金刚烷化合物和甾类化合物中选出的至少一种。 | ||
| 申请公布号 | CN100346230C | 申请公布日期 | 2007.10.31 |
| 申请号 | CN02141011.9 | 申请日期 | 2002.05.17 |
| 申请人 | 东京応化工业株式会社 | 发明人 | 越山淳;胁屋和正 |
| 分类号 | G03F7/11(2006.01);H05K3/28(2006.01) | 主分类号 | G03F7/11(2006.01) |
| 代理机构 | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人 | 魏金玺;杨丽琴 |
| 主权项 | 1、一种用于埋入通孔中以形成保护膜的保护膜形成用材料，其特征是，基本上由有机溶剂、和至少具有2个以上的脂环结构的成膜化合物组成，其中进一步添加有选自含氮化合物中的至少1种物质，该含氮化合物具有至少2个被羟烷基或烷氧基烷基或这两种基团取代的氨基，该材料埋入到通孔中时不产生气泡。 | ||
| 地址 | 日本川崎市 | ||