| 发明名称 | 一种太阳敏感器光学掩模及其制造方法 | ||
| 摘要 | 本发明涉及航天器姿态测量控制系统中的姿态敏感器，具体涉及一种太阳敏感器光学掩模及其制造方法。该掩模由掩模基片(1)、镀制在掩模基片(1)一个表面上的滤光层膜系(2)和镀制在滤光层膜系(2)上的阻光层膜系(3)三部分构成。该掩模的制造方法及其步骤如下：a、制造掩模基片；b、镀滤光层膜系；c、镀阻光层膜系；d、涂光刻胶；e、曝光；f、腐蚀；g、清洗及烘干。本发明太阳敏感器光学掩模，具有能够适应航天器的恶劣的力学环境、其透光孔的尺寸和形状精度高、透过的光斑形状无畸变以及太阳光斜入射时光强度衰减少的特点。 | ||
| 申请公布号 | CN101063807A | 申请公布日期 | 2007.10.31 |
| 申请号 | CN200710100394.8 | 申请日期 | 2007.06.11 |
| 申请人 | 北京航空航天大学 | 发明人 | 张广军;樊巧云;张晓敏;孙维国;赵岚 |
| 分类号 | G03F1/14(2006.01);G03F7/00(2006.01) | 主分类号 | G03F1/14(2006.01) |
| 代理机构 | 北京汇泽知识产权代理有限公司 | 代理人 | 张立成 |
| 主权项 | 1、一种太阳敏感器光学掩模，包括有掩模基片、镀制在掩模基片一个表面上的滤光层膜系及镀制在滤光层膜系上的阻光层膜系，其特征在于，掩模基片由白宝石制成，滤光层膜系是由硅与二氧化硅交替层叠而成的多层介质膜系，阻光层膜系是由铬与金交替层叠而成的多层介质膜系，所述阻光层膜系设有透光孔。 | ||
| 地址 | 100083北京市海淀区学院路37号 | ||