发明名称 反射式干涉调节显示元件及其制造方法
摘要 本发明提供一种反射式干涉调节显示元件及其制造方法,在反射式干涉调节显示元件的下电极面向腔室的表面上覆盖一层保护层。因此,在蚀刻位于上、下电极之间的牺牲层时,保护层可以保护下电极的表面不受蚀刻剂的损伤,使上、下电极之间的距离不会因此变动而影响经此元件反射输出的光波长。
申请公布号 CN100346223C 申请公布日期 2007.10.31
申请号 CN03158926.X 申请日期 2003.09.09
申请人 高通MEMS科技公司 发明人 林文坚;蔡熊光
分类号 G02F1/21(2006.01);G02B26/00(2006.01) 主分类号 G02F1/21(2006.01)
代理机构 北京律盟知识产权代理有限责任公司 代理人 王允方;刘国伟
主权项 1、一种反射式干涉调节显示元件的制造方法,其特征在于,该制造方法至少包含:形成一第一电极层于一透明基板上,其中该第一电极包含一形成于所述透明基板上的第一透明导电层、一形成于所述第一透明导电层上的光吸收层及一形成于所述光吸收层上的绝缘层;形成一保护层于该第一电极层上;形成一牺牲层于该保护层上;形成至少直条状的二第一开口于该牺牲层、该保护层、该第一电极层之中,以定义出至少一第一电极,该第一电极由定义后的该第一电极层与该保护层所堆栈而成;涂布一感光材料于该透明基板上,使该感光材料填满该些第一开口并覆盖该牺牲层;图案化该感光材料,以使该感光材料于该些第一开口中形成支撑物;形成一第二电极层于该牺牲层与该支撑物上;形成至少直条状的二第二开口于该第二电极层中,以定义出至少一第二电极,且这些第二开口的延伸方向与这些第一开口的延伸方向为互相垂直;以及移除该牺牲层,其中该保护层保护该绝缘层在移除该牺牲层时不受损伤。
地址 美国加利福尼亚州