| 发明名称 |
Zusammensetzung und Verfahren zur Behandlung von Halbleitersubstraten |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
DE602004008863(D1) |
申请公布日期 |
2007.10.25 |
| 申请号 |
DE200460008863T |
申请日期 |
2004.12.17 |
| 申请人 |
INTERUNIVERSITAIR MICROELEKTRONICA CENTRUM (IMEC) |
发明人 |
DE WAELE, RITA;VOS, RITA |
| 分类号 |
C11D3/26;C11D3/02;C11D3/30;C11D3/34;C11D7/32;C11D7/34;C11D11/00 |
主分类号 |
C11D3/26 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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