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经营范围
发明名称
Lithographischer Apparat und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
摘要
申请公布号
DE602005000147(T2)
申请公布日期
2007.10.25
申请号
DE200560000147T
申请日期
2005.03.31
申请人
ASML NETHERLANDS B.V.
发明人
ZAAL, JACOBUS KOEN;MERTENS, JOHANNES JEROEN;OTTENS, JOOST JEROEN
分类号
G03F7/20;H01L21/027
主分类号
G03F7/20
代理机构
代理人
主权项
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