发明名称 |
成像设备 |
摘要 |
成像设备包括:成像装置,它在记录纸张上形成图像;表面,它设置在与成像装置形成图像的方向相反的位置上,并包括记录纸张放在其上的区域;馈纸装置,它在预定方向上馈送记录纸张;和侧边探测器装置,它具有面对记录纸张放置的光发射装置和光接收装置,侧边探测器在垂直于预定方向的方向上移动以从光发射装置发出光束的同时,侧边探测器探测记录纸张的侧边,其中至少被光发射装置发出的光束照射的区域要经过防反射处理以减少从光发射装置发出的、在该表面被反射的并且进入光接收装置的光量。通过防反射处理,从光发射装置发射到该区域的光量在光接收装置处减小了。 |
申请公布号 |
CN100344458C |
申请公布日期 |
2007.10.24 |
申请号 |
CN200410003637.2 |
申请日期 |
2004.02.04 |
申请人 |
兄弟工业株式会社 |
发明人 |
竹内胜;竹本贵俊 |
分类号 |
B41J11/00(2006.01);B41J13/08(2006.01);B41J15/04(2006.01);B65H7/14(2006.01) |
主分类号 |
B41J11/00(2006.01) |
代理机构 |
中原信达知识产权代理有限责任公司 |
代理人 |
武玉琴;顾红霞 |
主权项 |
1.一种成像设备,包括:一个成像装置,它在记录纸张上形成图像;一个表面,它设置在与成像装置形成图像的方向相反的位置上,并且包括记录纸张放在其上的一个区域;一个馈纸装置,它在预定方向上馈送记录纸张;和一个侧边探测器装置,它具有面对记录纸张放置的光发射装置和光接收装置,侧边探测器在垂直于预定方向的方向上移动以从光发射装置发出光束的同时,侧边探测器探测记录纸张的侧边,其中至少被光发射装置发出的光束照射的区域要经过防反射处理以减少从光发射装置发出的、在该表面被反射的并且进入光接收装置的光量。 |
地址 |
日本爱知县名古屋市 |