发明名称 |
用于含氟聚合物的薄膜层压-脱层方法 |
摘要 |
本发明涉及一种将薄含氟聚合物薄膜与接受片材形成薄膜层压材料的方法,更具体地讲,本发明涉及制备非常薄、可转移的含氟聚合物薄膜的方法。将薄含氟聚合物底层施用于载体层上,所述载体层可为较厚的膜。随后将所述载体层/薄底层与接受片材层压,随后剥去所述载体层,将所述底膜留在所述接受片材上。 |
申请公布号 |
CN100344447C |
申请公布日期 |
2007.10.24 |
申请号 |
CN200480008189.3 |
申请日期 |
2004.01.26 |
申请人 |
霍尼韦尔国际公司 |
发明人 |
M·J·彻尔平斯基;Y·P·R·婷;J·D·穆尔顿 |
分类号 |
B32B37/02(2006.01);B32B37/12(2006.01);B32B27/08(2006.01);B32B7/12(2006.01) |
主分类号 |
B32B37/02(2006.01) |
代理机构 |
中国专利代理(香港)有限公司 |
代理人 |
王景朝 |
主权项 |
1.一种薄膜层压-脱层方法,所述方法包括以下步骤:a)提供具有第一和第二表面的载体层;b)将具有第一和第二表面的至少一层含氟聚合物底层施用于所述载体层的至少一个表面,所述至少一层底层的所述第一表面与所述载体层的表面接触,其中所述底层的厚度小于或等于10.2μm;c)将粘合层施用于所述底层的所述第二表面;d)通过所述粘合层使所述底层附着于接受片材;和e)从所述底层分离所述载体层,使得所述底层仍附着于所述接受片材。 |
地址 |
美国新泽西州 |