| 发明名称 | 光学层叠体的制造方法、偏振片和液晶显示装置 | ||
| 摘要 | 经过(1)将取向基板上形成的液晶取向被固定的液晶物质层，通过接合剂层接合在再剥离性基板上，然后剥离取向基板，将液晶物质层转写在再剥离性基板上，得到由再剥离性基板/接合剂层/液晶物质层形成的层叠体(A)的第1工序，(2)将层叠体(A)和高分子拉伸薄膜通过粘合剂或接合剂粘合在一起，得到由再剥离性基板/接合剂层/液晶物质层/粘合剂层或接合剂层/高分子拉伸薄膜形成的层叠体的第2工序，以及(3)剥离所述层叠体的再剥离性基板，在接合剂层或高分子拉伸薄膜上贴合偏振片的第3工序的光学层叠体的制造方法。通过该制造方法提供层叠由无支持基板的液晶物质层构成的光学元件的制造方法。 | ||
| 申请公布号 | CN100345041C | 申请公布日期 | 2007.10.24 |
| 申请号 | CN200410039075.7 | 申请日期 | 2004.01.29 |
| 申请人 | 新日本石油株式会社 | 发明人 | 穗崎宪二;佐藤晴义 |
| 分类号 | G02F1/1335(2006.01);G02B5/30(2006.01) | 主分类号 | G02F1/1335(2006.01) |
| 代理机构 | 北京三友知识产权代理有限公司 | 代理人 | 丁香兰 |
| 主权项 | 1.光学层叠体的制造方法，其特征为，所述光学层叠体的制造方法至少经过如下工序：(1)将取向基板上形成的液晶取向被固定的液晶物质层通过接合剂层接合在再剥离性基板上，然后剥离取向基板，将液晶物质层转写在再剥离性基板上，得到由再剥离性基板/接合剂层/液晶物质层形成的层叠体(A)的第1工序；(2)将层叠体(A)和高分子拉伸薄膜通过粘合剂层或接合剂层粘合在一起，得到由再剥离性基板/接合剂层/液晶物质层/粘合剂层或接合剂层/高分子拉伸薄膜形成的层叠体的第2工序；以及(3)剥离所述层叠体的再剥离性基板，在接合剂层或高分子拉伸薄膜上贴合偏振片的第3工序。 | ||
| 地址 | 日本东京 | ||