发明名称 含碳之溅镀标靶合金组合物
摘要 本发明提供一种溅镀标靶材料。该溅镀标靶材料包含一包含Cr-C、Cr-M-C或Cr-M-1-M2-C之合金系统,其中C占至少0.5原子百分比且至多20原子百分比;M占至少0.5原子百分比且至多20原子百分比,并系选自由Ti、V、Y、Zr、Nb、Mo、Hf、Ta及W组成之群之一元素;M1占至少0.5原子百分比且至多20原子百分比,并系选自由Ti、V、Zr、 Nb、Mo、Hf、Ta及W组成之群之一元素;且M2占至少0.5原子百分比且至多10原子百分比,并系选自由Li、Mg、 Al、Sc、Mn、Y及Te组成之群之一元素。本发明亦提供一种包含一基板及包含本发明溅镀标靶材料之至少一底层的磁记录媒体。本发明进一步提供一种制造溅镀标靶材料之方法。该方法可采用包含元素组合之粉末材料,其可包括铬合金、碳化物或含碳母合金。
申请公布号 TWI288784 申请公布日期 2007.10.21
申请号 TW094129694 申请日期 2005.08.30
申请人 贺利氏公司 发明人 阿迪罗哈伯 载;麦可 拉斯洛普;法兰可斯C 达瑞
分类号 C23C14/34(2006.01) 主分类号 C23C14/34(2006.01)
代理机构 代理人 陈长文 台北市松山区敦化北路201号7楼
主权项 1.一种溅镀标靶材料,其具有一包含Cr-C、Cr-M-C或Cr- M-1-M2-C之合金系统,其中C占至少0.5原子百分比且至 多20原子百分比;M占至少0.5原子百分比且至多20原 子百分比,并系选自由Ti、V、Y、Zr、Nb、Mo、Hf、Ta 及W组成之群之一元素;M1占至少0.5原子百分比且至 多20原子百分比,并系选自由Ti、V、Zr、Nb、Mo、Hf 、Ta及W组成之群之一元素;且M2占至少0.5原子百分 比且至多10原子百分比,并系选自由Li、Mg、Al、Sc 、Mn、Y及Te组成之群之一元素。 2.如请求项1之溅镀标靶材料,其中C进一步占至少1. 0原子百分比且至多10原子百分比。 3.如请求项1之溅镀标靶材料,其中C进一步占至少1. 5原子百分比且至多8原子百分比。 4.如请求项1之溅镀标靶材料,其中M包含Mo。 5.如请求项4之溅镀标靶材料,其中该合金系统系选 自由Cr-20Mo-6C、Cr-20Mo-2C、Cr-6Mo-4C、Cr-20Mo-4C及Cr-6Mo- 2C组成之群。 6.如请求项1之溅镀标靶材料,其中该合金系统系选 自由Cr-4C、Cr-15W-5C、Cr-20Mo-2Ti-2C及Cr-20Mo-2Ta-2C组成 之群。 7.一种磁记录媒体,其包含一基板及至少一底层,该 底层具有一包含Cr-C、Cr-M-C及Cr-M-1-M2-C之合金系统, 其中C占至少0.5原子百分比且至多20原子百分比;M 占至少0.5原子百分比且至多20原子百分比,并系选 自由Ti、V、Y、Zr、Nb、Mo、Hf、Ta及W组成之群之一 元素;M1占至少0.5原子百分比且至多20原子百分比, 并系选自由Ti、V、Zr、Nb、Mo、Hf、Ta及W组成之群 之一元素;且M2占至少0.5原子百分比且至多10原子 百分比,并系选自由Li、Mg、Al、Sc、Mn、Y及Te组成 之群之一元素。 8.如请求项7之磁记录媒体,其中C进一步占至少1.0 原子百分比且至多10原子百分比。 9.如请求项7之磁记录媒体,其中C进一步占至少1.5 原子百分比且至多8原子百分比。 10.如请求项7之磁记录媒体,其中M包含Mo。 11.如请求项10之磁记录媒体,其中该合金系统系选 自由Cr-20Mo-6C、Cr-20Mo-2C、Cr-6Mo-4C、Cr-20Mo-4C及Cr-6Mo- 2C组成之群。 12.如请求项7之磁记录媒体,其中该合金系统系选 自由Cr-4C、Cr-15W-5C、Cr-20Mo-2Ti-2C及Cr-20Mo-2Ta-2C组成 之群。 13.一种制造一溅镀标靶材料之方法,其包含: (a)选择元素或其元素组合之粉末材料以用于一包 含Cr-C、Cr-M-C或Cr-M-1-M2-C之合金系统, 其中C占至少0.5原子百分比且至多20原子百分比;M 占至少0.5原子百分比且至多20原子百分比,并系选 自由Ti、V、Y、Zr、Nb、Mo、Hf、Ta及W组成之群之一 元素;M1占至少0.5原子百分比且至多20原子百分比, 并系选自由Ti、V、Zr、Nb、Mo、Hf、Ta及W组成之群 之一元素;且M2占至少0.5原子百分比且至多10原子 百分比,并系选自由Li、Mg、Al、Sc、Mn、Y及Te组成 之群之一元素,且 其中该等粉末材料系经选择以具有对一溅镀标靶 材料有效之至少一纯度値、网目尺寸及粒子形态; 及 (b)组合元素或其组合之该等所选粉末材料以产生 用于该合金系统之未经压实调配物;及 (c)致密化该未经压实之调配物以产生一溅镀标靶 材料。 14.如请求项13之方法,其中C进一步占至少1.0原子百 分比且至多10原子百分比。 15.如请求项13之方法,其中C进一步占至少1.5原子百 分比且至多8原子百分比。 16.如请求项13之方法,其中M包含Mo。 17.如请求项16之方法,其中该合金系统系选自由Cr- 20Mo-6C、Cr-20Mo-2C、Cr-6Mo-4C、Cr-20Mo-4C及Cr-6Mo-2C组成 之群。 18.如请求项13之方法,其中该合金系统系选自由Cr-4 C、Cr-15W-5C、Cr-20Mo-2Ti-2C及Cr-20Mo-2Ta-2C组成之群。 19.如请求项13之方法,其中该元素组合包含铬合金 。 20.如请求项19之方法,其中该铬合金包含碳化铬。 21.如请求项13之方法,其中该元素组合包含碳化物 或含碳母合金。 22.如请求项13之方法,其中该碳化物或含碳母合金 系选自由Ti-C、V-C、Y-C、Zr-C、Nb-C、Mo-C、Hf-C、Ta-C 及W-C、Li-C、Mg-C、Al-C、Sc-C、Mn-C、Y-C及Te-C组成之 群。 图式简单说明: 图1描绘用于习知磁记录媒体之一典型薄膜堆叠; 图2描绘根据本发明之一态样之一薄膜堆叠; 图3展示扫描电子显微照片(SEM)之一背散射成像模 式,其系藉由对应于Cr-14C原子百分比(at%)之元素的 预合金组合之粒子截面而获得; 图4展示一SEM显微照片,其说明藉由压实Cr与Cr2C粉 末掺合物所获得的Cr-C合金中之碳化物相的分布; 且 图5展示一SEM显微照片,其说明藉由压实Cr、Mo及Mo2C 粉末掺合物所获得的Cr-Mo-C合金中之碳化物相的分 布。
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