| 主权项 |
1.一种料盘储存机构,包括: 一承载座体;以及 复数个料盘储存部,其系设置在该承载座体上,以 提供承载料盘。 2.如申请专利范围第1项所述之料盘储存机构,其中 该承载座体系具有四个承载支撑架体,该四个支撑 架体之间具有一容置空间,以提供容置该料盘。 3.如申请专利范围第2项所述之料盘储存机构,其中 该料盘储存部更具有复数个支撑构件以提供支撑 该料盘。 4.如申请专利范围第3项所述之料盘储存机构,其中 该支撑构件系可于该支撑架体上进行转动。 5.如申请专利范围第1项所述之料盘储存机构,其中 该料盘储存部具有复数个支撑部以支撑该料盘,该 支撑部具有: 一支撑件,其系可提供承载料盘以及进行转动,该 支撑件上具有一凹槽; 一弹片,其系设置于该支撑件下方,以局限该支撑 件之转动角度;以及 一定位构件,其系设置于该支撑件之一侧且可进行 转动,该定位构件更具有一凸块以于特定位置于该 凹槽相扣合,以定位该支撑件之位置。 6.如申请专利范围第1项所述之料盘储存机构,其中 该料盘储存部具有复数个支撑部以支撑该料盘,该 支撑部具有: 一支撑件,其系可提供承载料盘;以及 一汽缸体,其系与该支撑件相连接,以提供该支撑 件进行线性位移运动。 7.一种料盘储存机构,包括: 一承载座体; 一第一料盘储存部,其系设置在该承载座体上,该 第一料盘储存部可存放复数个满载料盘;以及 一第二料盘储存部,其系设置于该承载座体上且位 于该第一料盘储存部之下方,该第二料盘储存部可 以存放一未满料盘。 8.如申请专利范围第7项所述之料盘储存机构,其中 该承载座体系具有四个承载支撑架体,该四个支撑 架体之间具有一容置空间,以提供容置该复数个满 载料盘与该未满料盘。 9.如申请专利范围第8项所述之料盘储存机构,其中 该第一料盘储存部于该四个支撑架体上分别具有 一支撑构件以提供支撑该复数个满载料盘。 10.如申请专利范围第9项所述之料盘储存机构,其 中该支撑构件系可于该支撑架体上进行转动。 11.如申请专利范围第8项所述之料盘储存机构,其 中该第二料盘储存部于该四个支撑架体上分别具 有一支撑构件以提供支撑该未满料盘。 12.如申请专利范围第11项所述之料盘储存机构,其 中该支撑构件系可于该支撑架体上进行转动。 13.如申请专利范围第7项所述之料盘储存机构,其 中该第一料盘储存部之一侧更具有一料盘检知感 测器,以感测该第一料盘储存部上是否有满载料盘 。 14.如申请专利范围第7项所述之料盘储存机构,其 中该第二料盘储存部之一侧更具有一料盘检知感 测器,以感测该第二料盘储存部上是否有该未满料 盘。 15.如申请专利范围第8项所述之料盘储存机构,其 中该第二料盘储存部于该四个支撑架体上分别具 有一支撑部以提供支撑该未满料盘,该支撑部具有 : 一支撑件,其系可进行转动,该支撑件上具有一凹 槽; 一弹片,其系设置于该支撑件下方,以局限该支撑 件之转动角度;以及 一定位构件,其系设置于该支撑件之一侧且可进行 转动,该定位构件更具有一凸块以于特定位置于该 凹槽相扣合,以定位该支撑件之位置。 16.如申请专利范围第8项所述之料盘储存机构,其 中该第二料盘储存部于该四个支撑架体上分别具 有一支撑部以提供支撑该未满料盘,该支撑部具有 : 一支撑件,其系可提供承载料盘;以及 一汽缸体,其系与该支撑件相连接,以提供该支撑 件进行线性位移运动。 17.一种晶片检选机,包括: 至少一导轨; 一移载座,其系设置于该导轨上,该移载座可于该 导轨上进行线性位移运动; 至少一移载臂,其系设置于该移载座上,该移载臂 可以进行至少一轴之位移运动;以及 复数个料盘储存机构,其系排列于该至少一移载臂 之一侧,该料盘储存机构更包括有: 一承载座体; 一第一料盘储存部,其系设置在该承载座体上,该 第一料盘储存部可存放复数个满载料盘;以及 一第二料盘储存部,其系设置于该承载座体上且位 于该第一料盘储存部之下方,该第二料盘储存部可 以存放一未满料盘。 18.如申请专利范围第17项所述之晶片检选机,其中 该承载座体系具有四个承载支撑架体,该四个支撑 架体之间具有一容置空间,以提供容置该复数个满 载料盘与该未满料盘。 19.如申请专利范围第18项所述之晶片检选机,其中 该第二料盘储存部于该四个支撑架体上分别具有 一支撑部以提供支撑该未满料盘,该支撑部具有: 一支撑件,其系可进行转动,该支撑件上具有一凹 槽; 一弹片,其系设置于该支撑件下方,以局限该支撑 件之转动角度;以及 一定位构件,其系设置于该支撑件之一侧且可进行 转动,该定位构件更具有一凸块以于特定位置于该 凹槽相扣合,以定位该支撑件之位置。 20.如申请专利范围第18项所述之晶片检选机,其中 该第二料盘储存部于该四个支撑架体上分别具有 一支撑部以提供支撑该未满料盘,该支撑部具有: 一支撑件,其系可提供承载料盘;以及 一汽缸体,其系与该支撑件相连接,以提供该支撑 件进行线性位移运动。 21.一种晶片检选机,包括: 至少一导轨; 一移载座,其系设置于该导轨上,该移载座可于该 导轨上进行线性位移运动; 至少一移载臂,其系设置于该移载座上,该移载臂 可以进行至少一轴之位移运动;以及 复数个料盘储存机构,其系呈阶梯状排列于该至少 一移载臂之一侧,该料盘储存机构更包括有: 一承载座体; 一第一料盘储存部,其系设置在该承载座体上,该 第一料盘储存部可存放复数个满载料盘;以及 一第二料盘储存部,其系设置于该承载座体上且位 于该第一料盘储存部之下方,该第二料盘储存部可 以存放一未满料盘。 22.如申请专利范围第21项所述之料盘储存机构,其 中该承载座体系具有四个承载支撑架体,该四个支 撑架体之间具有一容置空间,以提供容置该复数个 满载料盘与该未满料盘。 23.如申请专利范围第22项所述之料盘储存机构,其 中该第一料盘储存部于该四个支撑架体上分别具 有一支撑构件以提供支撑该复数个满载料盘。 24.如申请专利范围第23项所述之料盘储存机构,其 中该支撑构件系可于该支撑架体上进行转动。 25.如申请专利范围第22项所述之料盘储存机构,其 中该第二料盘储存部于该四个支撑架体上分别具 有一支撑构件以提供支撑该未满料盘。 26.如申请专利范围第25项所述之料盘储存机构,其 中该支撑构件系可于该支撑架体上进行转动。 27.如申请专利范围第22项所述之料盘储存机构,其 中该第一料盘储存部之一侧更具有一料盘检知感 测器,以感测该第一料盘储存部上是否有满载料盘 。 28.如申请专利范围第22项所述之料盘储存机构,其 中该第二料盘储存部之一侧更具有一料盘检知感 测器,以感测该第二料盘储存部上是否有该未满料 盘。 图式简单说明: 图一系为习用之料盘供给装置示意图。 图二系为本创作之料盘储存机构示意图。 图三系为本创作之料盘储存机构之较佳实施例侧 视示意图。 图四系为本创作之料盘储存机构之另一较佳实施 例立体示意图。 图五系为本创作之料盘储存机构之又一较佳实施 例侧视示意图。 图六A至图六B系为本创作之料盘储存机构之支撑 构件动作示意图。 图七系为本创作之晶片检选机之较佳实施例示意 图。 图八A系为本创作之晶片检选机之另一较佳实施例 示意图。 图八B系为本创作之晶片检选机之料盘储存机构示 意图。 图九A至图九B系为图四之料盘储存机构之支撑构 件动作示意图。 |
