| 主权项 |
1.一种式II之N1-(2'-啶基)-1,2-丙二胺胺磺酸之制 法,其包含式I与NH2R'反应, 其中R为选自C1-C3烷基所组成之群,R'为H、C1-C6烷基 、C3-C7环烷基、C2-C7醯基、C5-C10芳基C6-C11芳醯基、 (C3-C7)环烷基(C1-C6)烷基、二-(C3-C7)环烷基-(C1-C6)烷 基、(C5-C10)芳基(C1-C6)烷基,及二-(C5-C10)芳基-(C1-C6) 烷基。 2.如申请专利范围第1项之制法,其中R为甲基。 3.如申请专利范围第1项之制法,其进一步包含步骤 a)其中R'不是H时,将式II化合物氢化将R'转变成H;且 b)式II化合物之酸水解,其中R'为H,以形成式III化合 物 4.如申请专利范围第3项之制法,其进一步包含式III 化合物与式IV化合物反应形成式V化合物, 其中Ar为二氢苯并二-8-羟基或苯并二-8-羟 基,或可选择地由多至3个各自独立选自卤素、甲 氧基、卤甲基、二卤甲基及三卤甲基取代基取代 之苯基,以及L为适当的离去基。 5.如申请专利范围第4项之制法,其进一步包含式V 化合物与选自氯化芳醯基、溴化芳醯基及芳醯基 酸酐之芳醯化合物在硷基存在下,反应形成式VI化 合物, 其中芳基表示C6-C12芳香族基,可选择经多至3个各 自独立选自由卤素原子、烷基、烷氧基、烷氧基 羰基、硝基、胺基、烷基胺基、二烷基胺基、卤 烷基、二卤烷基、三卤烷基、及醯胺基所组成 之每个不具有超过6个碳之取代基取代。 6.如申请专利范围第1项之制法,其进一步包含式II 化合物与式IV化合物反应形成式V化合物, 其中Ar为二氢苯并二-8-羟基或苯并二-8-羟 基,或可选择地由多至3个各自独立选自卤素、甲 氧基、卤甲基、二卤甲基及三卤甲基取代基取代 之苯基,以及L为适当的离去基。 7.如申请专利范围第6项之制法,其进一步包含式V 化合物与选自氯化芳醯基、溴化芳醯基及芳醯基 酸酐之芳醯化合物在硷基存在下,反应形成式VI化 合物, 其中芳基表示C6-C12芳香族基,可选择经多至3个各 自独立选自由卤素原子、烷基、烷氧基、烷氧基 羰基、硝基、胺基、烷基胺基、二烷基胺基、卤 烷基、二卤烷基、三卤烷基、及醯胺基所组成 之每个不具有超过6个碳之取代基取代。 8.如申请专利范围第7项之制法,其中芳基为4-氰基 苯基。 9.一种转化式II化合物, 其中R为选自C1-C3烷基所组成之群,R'为H、C1-C6烷基 、C3-C7环烷基、C2-C7醯基、C5-C10芳基C6-C11芳醯基、 (C3-C7)环烷基(C1-C6)烷基、二-(C3-C7)环烷基-(C1-C6)烷 基、(C5-C10)芳基(C1-C6)烷基,及二-(C5-C10)芳基-(C1-C6) 烷基,成为式III化合物 之方法, 该方法包含步骤: a)其中R'不是H时,将式II化合物氢化将R'转变成H;且 b)式II化合物之酸水解,其中R'为H,以形成式III化合 物。 10.如申请专利范围第9项之方法,其中进一步包含 式III化合物与式IV化合物反应形成式V化合物, 其中Ar为二氢苯并二-8-羟基或苯并二-8-羟 基,或可选择地由多至3个各自独立选自卤素、 甲氧基、卤甲基、二卤甲基及三卤甲基取代基取 代之苯基,以及L为适当的离去基。 11.如申请专利范围第10项之方法,其中进一步包含 式V化合物与选自氯化芳醯基、溴化芳醯基及芳醯 基酸酐之芳醯化合物在硷基存在下,反应形成式VI 化合物, 其中芳基表示C6-C12芳香族基,可选择经多至3个各 自独立选自由卤素原子、烷基、烷氧基、烷氧基 羰基、硝基、胺基、烷基胺基、二烷基胺基、卤 烷基、二卤烷基、三卤烷基、及醯胺基所组成 之每个不具有超过6个碳之取代基取代。 12.一种包含式II化合物与式IV化合物反应形成式V 化合物之方法, 其中Ar为二氢苯并二-8-羟基或苯并二-8-羟 基,或可选择地由多至3个各自独立选自卤素、 甲氧基、卤甲基、二卤甲基及三卤甲基取代基取 代之苯基,以及L为适当的离去基。 13.如申请专利范围第12项之方法,其中进一步包含 式V化合物与选自氯化芳醯基、溴化芳醯基及芳醯 基酸酐之芳醯化合物在硷基存在下,反应形成式VI 化合物, 其中芳基表示C6-C12芳香族基,可选择经多至3个各 自独立选自由卤素原子、烷基、烷氧基、烷氧基 羰基、硝基、胺基、烷基胺基、二烷基胺基、卤 烷基、二卤烷基、三卤烷基、及醯胺基所组成 之每个不具有超过6个碳之取代基取代。 14.一种式II化合物, 其中R为选自C1-C3烷基所组成之群,R'选自H、C1-C6烷 基、C3-C7环烷基、C2-C7醯基、C5-C10芳基C6-C11芳醯基 、(C3-C7)环烷基(C1-C6)烷基、二-(C3-C7)环烷基-(C1-C6) 烷基、(C5-C10)芳基(C1-C6)烷基,及二-(C5-C10)芳基-(C1-C 6)烷基, 及其光学异构物。 15.如申请专利范围第14项之化合物,其中R'选自H、 基或二苯甲基。 |
