发明名称 防护胶膜框架及利用此框架之微影用防护胶膜组件
摘要 一种防护胶膜框架以及使用该框架之微影用防护胶膜组件,其不仅能藉由防护胶膜膜片的张力防止框架向内侧弯曲,使曝光面积减少,亦能得到尺寸精确度以及对光罩之贴附位置精确度良好的防护胶膜组件。本发明的框架,其特征为于框体至少一对的边,具有部分为朝外侧凸出的圆弧形状部分,其两侧为朝外侧凹入的圆弧形状部分,再更两外侧为直线形状部分。再者,朝外侧凹入圆弧形状部分的半径为朝外侧凸出圆弧形状部分的半径的1/3以上为宜。本发明特别适用于框架至少一对的边长为400mm以上之大型框架。
申请公布号 TWI288728 申请公布日期 2007.10.21
申请号 TW094128199 申请日期 2005.08.18
申请人 信越化学工业股份有限公司 发明人 关原一敏
分类号 B65B17/00(2006.01);B65B19/00(2006.01);H01L23/00(2006.01) 主分类号 B65B17/00(2006.01)
代理机构 代理人 周良谋 新竹市东大路1段118号10楼;周良吉 新竹市东大路1段118号10楼
主权项 1.一种防护胶膜框架,其特征为于其框体至少一对 的边具有:中央部分为一朝外侧凸出的圆弧形状部 分,其两侧为一朝外侧凹入的圆弧形状部分,再更 两外侧为一直线形状部分。 2.如申请专利范围第1项之防护胶膜框架,其中该朝 外侧凹入的该圆弧形状部分的半径为该朝外侧凸 出的该圆弧形状部分之半径的1/3以上。 3.如申请专利范围第1项或第2项之防护胶膜框架, 其中,将该防护胶膜框架之该边的该圆弧形状部分 以及该直线形状部分的大小、范围设计成:于黏接 一防护胶膜膜片而构成该防护胶膜组件时,由于黏 接的该防护胶膜膜片的张力之作用,使该防护胶膜 框架的各边成为直线状。 4.如申请专利范围第1项或第2项之防护胶膜框架, 其中该框体至少一对的边长为400mm以上。 5.一种微影用的防护胶膜组件,其特征为使用如申 请专利范围第1至4项中任一项之防护胶膜框架,黏 接防护胶膜膜片于该防护胶膜框架而构成。 图式简单说明: 第1图系显示依本发明的框架之一实施例的概略图 。 第2图系显示使用本发明之框架所制作的防护胶膜 组件之一实施例的概略图。 第3图(a)系显示习知框架的形状,(b)于此框架黏接 防护胶膜膜片而得之习知防护胶膜组件的概略图 。 第4(a)图系显示将长边向外侧弯曲的框架,第4(b)图 系显示于此框架黏接防护胶膜膜片而得之防护胶 膜组件的概略图。 第5图系显示以剥离工具将防护胶膜膜片张设保持 时的张力方向。
地址 日本