| 摘要 |
本发明系有关于一种近场相位微影系统，该方法系将软性高分子材质制成之相位偏移光罩置于已涂光阻之基材上，且相位偏移光罩与基材系置于一膜腔内，且一密封膜将于相位偏移光罩与基材包覆，藉由气体吹入膜腔内以产生压力，使相位偏移光罩紧密贴合于基材，尤其是相位偏移光罩系由聚二甲基矽氧烷(PDMS)作为材料，而该相位偏移光罩具有已设计之图案且图案边缘具有π相位反转特性，故曝光时，图案边缘的两道光进行破坏性干射而于光阻上成像且图案清晰完整，无须使用昂贵的光学透镜微影系统(stepper)，即可备制奈米级线宽电子元件。 |
