画素结构的制造方法

摘要

一种画素结构的制造方法，其先在基板上形成闸极、扫瞄线以及至少一第一辅助图案。接着在基板上形成闸绝缘层，覆盖住闸极以及扫瞄线，且暴露出第一辅助图案以及部分扫瞄线。之后在闸极上方的闸绝缘层上形成通道层。接着形成源极、汲极、资料线、上电极以及至少一第二辅助图案，其中资料线会与暴露出来的第一辅助图案电性连接，且第二辅助图案会与暴露出来的扫瞄线电性连接。之后，形成保护层以覆盖住源极、汲极、资料线、第二辅助图案以及上电极。然后在保护层上形成画素电极，画素电极会与汲极以及上电极电性连接。