发明名称 |
微影设备及器件制造方法 |
摘要 |
一种微影设备包括:一液体限制系统,其用以将液体限制在一投影系统之一最终元件与一基板之间的一空间中;及一第一基板平台及一第二基板平台,两个基板平台经组态以相互协作来执行使该微影设备自一第一组态进入一第二组态之一接合移动,在该第一组态中该液体被限制在由该第一基板平台所固持之一第一基板与该最终元件之间,在该第二组态中该液体被限制在由该第二基板平台所固持之一第二基板与该最终元件之间,使得在该接合移动期间该液体基本上被限制在相对于该最终元件之该空间内。该设备亦包括一位置量测系统,其经组态以至少在该接合移动期间量测该第一基板平台及该第二基板平台之位置。 |
申请公布号 |
TW200739287 |
申请公布日期 |
2007.10.16 |
申请号 |
TW096107094 |
申请日期 |
2007.03.02 |
申请人 |
ASML公司 |
发明人 |
艾瑞克 罗勒夫 洛卜史塔;英格伯特斯 安东尼斯 法兰西斯寇斯 凡 德 派希;DER PASCH, ENGELBERTUS ANTONIUS FRANSISCUS |
分类号 |
G03F9/00(2006.01);G03F7/20(2006.01);H01L21/027(2006.01);H01L21/68(2006.01) |
主分类号 |
G03F9/00(2006.01) |
代理机构 |
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代理人 |
陈长文 |
主权项 |
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地址 |
荷兰 |