发明名称 薄膜图案层结构及其制造方法
摘要 本发明涉及一种薄膜图案层结构,其包括基板、挡墙及薄膜图案层,相邻挡墙与基板之间形成复数收容空间,其中至少两个收容空间内的薄膜图案层互相连通。本发明还涉及一种薄膜图案层结构之制造方法,其步骤如下:提供一基板;于该基板上形成复数挡墙,该复数挡墙与所述基板限定复数收容空间;将至少两个相邻收容空间之间的挡墙视作收容空间的一部分,藉由一喷墨装置将所需之墨水喷入复数收容空间内;乾燥固化复数收容空间中之墨水而形成薄膜图案层。
申请公布号 TW200738470 申请公布日期 2007.10.16
申请号 TW095112507 申请日期 2006.04.07
申请人 虹创科技股份有限公司 发明人 周景瑜;王宇宁
分类号 B41J2/01(2006.01);G03F7/20(2006.01);G02B5/20(2006.01) 主分类号 B41J2/01(2006.01)
代理机构 代理人
主权项
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