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发明名称
薄膜图案层结构及其制造方法
摘要
本发明涉及一种薄膜图案层结构,其包括基板、挡墙及薄膜图案层,相邻挡墙与基板之间形成复数收容空间,其中至少两个收容空间内的薄膜图案层互相连通。本发明还涉及一种薄膜图案层结构之制造方法,其步骤如下:提供一基板;于该基板上形成复数挡墙,该复数挡墙与所述基板限定复数收容空间;将至少两个相邻收容空间之间的挡墙视作收容空间的一部分,藉由一喷墨装置将所需之墨水喷入复数收容空间内;乾燥固化复数收容空间中之墨水而形成薄膜图案层。
申请公布号
TW200738470
申请公布日期
2007.10.16
申请号
TW095112507
申请日期
2006.04.07
申请人
虹创科技股份有限公司
发明人
周景瑜;王宇宁
分类号
B41J2/01(2006.01);G03F7/20(2006.01);G02B5/20(2006.01)
主分类号
B41J2/01(2006.01)
代理机构
代理人
主权项
地址
新竹市新竹科学工业园区工业东四路24之1号4楼
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