| 摘要 |
本发明乃一种掩膜、成膜方法、发光装置及电子机器，提供例如使用于可将如阴极之线状体，以优异之尺寸精度加以形成之气相成膜法之掩膜、使用相关掩膜形成线状体之成膜方法、具备经由相关成膜方法形成之线状体之特性高之发光装置及电子机器。其解决手段乃掩膜40为将固定基板一方面侧，从另一方面侧，藉由气相制程供给，几行并设之复数线状体，形成于基板之表面而使用，具备具有对应于前述线状体之图案的复数开口部42的掩膜本体41、和具有横亘开口部42而设置，藉由本身重量防止掩膜本体51之变形机能的补强梁44；此补强梁44乃在开口部42之厚度方向，偏移存在于前述另一方面侧而设置者。 |
