| 摘要 |
本发明是有关于一种用以清洗光阻剂的方法，系使用一以酮醇类化合物为主的光阻清洗剂来接触一附着于一基材上的光阻剂，而使该光阻剂自该基材上被移除，本发明亦有关于一种光阻清洗剂，其包含一酮醇类化合物，以及一具有光阻清洗功能之基质。酮醇类化合物价格低廉，且仅有少量就可使该光阻清洗剂具有良好功效，因此本发明有利于使用者依其需求，选择所需之基质来变化本发明，亦有利于其基于成本考量，使用含多量酮醇类化合物之光阻清洗剂，因此本发明方法及光阻清洗剂，兼顾了优良之清洗效果与低成本两大优点，而有利于相关业界大量使用。 |
