发明名称 制造复相位延迟器和复合光学构件之方法
摘要 本发明提供一种制造复相位延迟器之方法,该复相位延迟器包括依序层压之至少一层树脂膜的第一相位延迟器、胶黏层及涂层之第二相位延迟器,该方法包括:制备具有胶黏剂之相位延迟器,其中在第一相位延迟器之表面上形成胶黏层;在转移基质上施加涂覆液体,该涂覆液体含于有机溶剂中氯含量不大于2000ppm之经有机改良的黏土化合物与黏合树脂,其中使用卡尔费雪水分计测得之含水率系0.15重量%至0.35重量%;藉由去除所施加之涂覆液体中的有机溶剂与水以形成第二相位延迟器;将上述第二相位延迟器的外露表面与上述具有胶黏剂之相位延迟器的胶黏层侧黏合;自上述第二相位延迟器剥除该转移基质;以及在该第二相位延迟器之已剥除转移基质的表面上形成第二胶黏层。
申请公布号 TW200739146 申请公布日期 2007.10.16
申请号 TW095133893 申请日期 2006.09.13
申请人 住友化学股份有限公司 发明人 山田贤司;永彻;松冈祥树
分类号 G02B5/30(2006.01);G02F1/1335(2006.01) 主分类号 G02B5/30(2006.01)
代理机构 代理人 林志刚
主权项
地址 日本