场发射电子源基板之制作方法

摘要

本发明有关于一种场发射电子源基板之制作方法，包括的步骤有：提供一表面含有一导电层之基板；形成一疏水性材料层于导电层表面；图案化疏水性材料层；提供一含有一电子发射源材料之亲水性溶液于疏水性材料层表面，以形成一电子发射层于疏水性材料层表面；以及移除疏水性材料层于导电层表面，使电子发射层与导电层表面相接触。其中，图案化之疏水性材料层包含复数个柱状体，且相邻之柱状体之边缘具有一介于1μm至500μm的间距。藉此，本发明方法可简易地制作电子发射体，并能准确地控制电子发射体的排列情形，以提升电子发射的均匀性。