敏辐射线性树脂组成物

摘要

本发明系揭示一种敏辐射线性树脂组成物，其能使液浸曝光方法所得之图型形状良好，且具有优良解像度及焦点深度充裕性，又对液浸曝光时所接触之折射率液体(浸渍液)的溶出物量较少，可形成透镜及光阻膜之间介由波长193nm的折射率超过1.44但未达1.85的液浸曝光用液体照射辐射线之液浸曝光微影蚀刻法所使用的光阻膜。又该敏辐射线性树脂组成物含有，含具有内酯构造之重覆单位的硷不溶性或硷难溶性但酸作用下可成为硷易溶性之树脂，及敏辐射线性酸发生剂。