| 主权项 |
1.一种石版印刷投影装置,其包括: -一支撑结构,其用于支撑图案化构件,该图案化构 件用于依据一预期的图案来图案化一投影光束; -一真空室,其用以向该投影光束提供一真空光束 路径; -一基板台,其用于支撑一基板; -一投影系统,用以将该图案化光束投影至该基板 之一目标部分; 其中进一步包括: -一可移动构件,使用时由一气体轴承支撑,该可移 动构件有相反的第一和第二侧,该第二侧曝露于该 真空室内部;及 -在该可移动构件的第一侧上之一压力补偿容器, 用以在该可移动构件的第一和第二侧的至少一部 分上提供大体上相等之一气体压力。 2.如申请专利范围第1项之装置,进一步包括处于不 同气体压力下的两个区域,其由该可移动构件及压 力补偿容器分隔,该区域之一包括该真空室的内部 。 3.如申请专利范围第2项之装置,进一步包括一差压 密封,用以在该两个区域保持不同的气体压力,同 时使该气体轴承可移动支撑该可移动构件。 4.如申请专利范围第1、2或3项之装置,其中该压力 补偿容器的内部经由一通道,与该可移动构件之第 二侧上的区域沟通。 5.如申请专利范围第1、2或3项之装置,其中该压力 补偿容器至少可部分变形。 6.如申请专利范围第1、2或3项之装置,其中该压力 补偿容器的至少一壁,在使用该气体轴承支撑该可 移动构件的邻近区域中时,接触该可移动构件。 7.如申请专利范围第1、2或3项之装置,其中该可移 动构件之第二侧上有一空心构件,且该空心构件之 内部有一孔通过该可移动构件,并通过该压力补偿 容器。 8.如申请专利范围第7项之装置,其中围绕该孔有风 箱,用以隔离该压力补偿容器之内部与该空心构件 之内部。 9.如申请专利范围第1、2或3项之装置,其中该压力 补偿容器中及该可移动构件之第二侧上的气体压 力小于大气压力。 10.一种装置制造方法,其包括下列步骤: -提供一基板,其至少部分由一辐射敏感材料层覆 盖; -用一辐射系统提供一辐射投影光束; -向一真空室内的投影光束提供一真空光束路径; -用图案化构件赋于该投影光束之断面一图案; -将辐射的图案化光束投影至该辐射敏感材料层之 一目标部分, 其中提供由一气体轴承支撑之一可移动构件,该构 件具有相反的第一和第二侧,该第二侧曝露于该真 空室之内部;该可移动构件之第一侧上提供一压力 补偿容器,且大体上均衡该可移动构件的第一侧上 之压力补偿容器中,及该可移动构件之第二侧的至 少一部分上的气体压力。 图式简单说明: 图1显示依据本发明一项具体实施例的一石版印刷 投影装置; 图2(a)显示一滑块及其支撑配置的示意断面图; 图2(b)显示图2(a)中滑块上所受的力; 图3(a)显示实施本发明之一滑块装置的断面图; 图3(b)显示图3(a)中滑块上所受的力;以及 图4显示依据本发明,滑块装置的另一项具体实施 例的断面图。 |
