| 主权项 |
1.一种抗反射涂布组合物,其包括在一第一溶剂中 均匀溶液形式的: (a)起始剂;以及 (b)具有聚合能力之含氧化物凝胶(oxide-containing colloid), 其中该具有聚合能力之含氧化物凝胶(b)系包含(i) 由公式(I)化合物所形成之凝胶粒子(colloid particles) 与(ii)具有公式(II)之可聚合化合物进行缩合反应 后所得之具有可聚合官能基之凝胶粒子, 其中,Z系为3B族元素、4B族元素、5B族元素、钨(W) 、铍(Be)、钛(Ti)、锆(Zr)或锌(Zn);x及y系各别大于或 等于1;R1系为丙烯酸基、丙烯醯基、环氧基、胺基 、异氰酸盐基或具有反应性双键之官能基;R2为烷 基、卤烷基或其结合;n及m系各别大于或等于1,且m 及n之总和系不小于2;当n大于1时,每一R1系为相同 或不同之官能基;当m大于1时,每一R2系为相同或不 同之官能基;M系为矽、铝、锆、钛、锡或锑,且该 凝胶粒子(i)与该可聚合化合物(ii)之重量比系介于 10:1至1:10之间。 2.如申请专利范围第1项所述之抗反射涂布组合物, 其中该起始剂(a)之重量百分比系介于0.1至10之间, 上述重量百分比系以该具有聚合能力之含氧化物 凝胶(b)之重量为基准。 3.如申请专利范围第1项所述之抗反射涂布组合物, 其中该由公式(I)化合物所形成之凝胶粒子(i)系为 由氧化钨(WO3)、氧化锌(ZnO)、氧化矽(SiO2)、氧化铝 (Al2O3)、氧化钛(TiO2)、氧化锆(ZrO2)、氧化锡(SnO2)、 氧化铍(BeO)、氧化锑(Sb2O5)或其混合所形成之凝胶 粒子。 4.如申请专利范围第1项所述之抗反射涂布组合物, 其中该可聚合化合物(ii)系为3-(甲基丙烯羰氧基) 丙基三甲氧矽烷、3-甲基丙烯酸丙基三甲氧矽烷 、环氧丙醇三乙氧基矽烷、异氰硫酸盐丙基三乙 氧基矽烷、3-胺基三乙氧基矽烷、环氧丙基氧丙 基三乙氧基矽烷、四乙氧基矽烷、乙烯基三乙氧 基矽烷、乙烯基三甲氧基矽烷、或由铝、锆、钛, 锡、锑原子所衍生之具有丙烯酸基、丙烯醯基、 环氧基、胺基、异氰酸盐基或具有反应性双键之 含氧化合物。 5.如申请专利范围第1项所述之抗反射涂布组合物, 更包含: (c)模板材, 其中该模板材(c)与该具有聚合能力之含氧化物凝 胶(b)之重量比系介于45:55至5:95之间,且该模板材(c) 系为非反应型之有机化合物、寡聚物、聚合物或 其混合物。 6.如申请专利范围第1项所述之抗反射涂布组合物, 更包含: (d)可聚合有机化合物单体, 其中该可聚合有机化合物单体(d)与该具有聚合能 力之含氧化物凝胶(b)之重量比系介于10:1至1:10之 间。 7.如申请专利范围第1项所述之抗反射涂布组合物, 其中该凝胶粒子(i)之粒径范围系介于5至150nm之间 。 8.如申请专利范围第1项所述之抗反射涂布组合物, 更包含: (e)添加剂, 其中该添加剂(e)与该具有聚合能力之含氧化物凝 胶(b)之重量比系介于1:99至1:1之间,且该添加剂系 包括平坦剂、均化剂、助黏剂、填料、除沫剂或 其混合。 9.如申请专利范围第1项所述之抗反射涂布组合物, 其中该具有聚合能力之含氧化物凝胶(b)系包含该 具有可聚合官能基之凝胶粒子与(iii)含氟之可聚 合有机化合物单体进行混合或反应所得之产物,而 该凝胶粒子(i)、该可聚合化合物(ii)与该含氟之可 聚合有机化合物单体(iii)之重量比系介于1:4:5至7:1 :2之间。 10.如申请专利范围第9项所述之抗反射涂布组合物 ,其中该含氟之可聚合有机化合物单体(iii)系包含 其中该含氟之可聚合有机化合物单体(iii)系包含2, 2,2-丙烯酸三氟乙基酯(2,2,2-trifluorethyl aclylate)、2,2 ,2-甲基丙烯酸三氟乙基酯(2,2,2 trifluorethyl methacrylic、丙烯酸六氟异丙基酯(Hexafluoroisopropyl acrylic)、甲基丙烯酸六氟异丙基酯(Hexafluoroisopropyl methacrylic)、2,2,3,3,3-丙烯酸五氟丙基酯(2,2,3,3,3- Pentafluoropropyl acrylate)、2,2,3,3,3-甲基丙烯酸五氟丙 基酯(2,2,3,3,3-Pentafluoropropyl methacrylate)、2,2,3,3,4,4,4 -丙烯酸七氟丁基酯(2,2,3,3,4,4,4-Heptafluorobutyl acrylate)、2,2,3,3,4,4,4-甲基丙烯酸七氟丁基酯(2,2,3,3 ,4,4,4-Heptafluorobutyl methacrylate)、2,2,3,3-丙烯酸四氟 丙基酯(2,2,3,3-Tetrafluoropropyl acrylate)、2,2,3,3-甲基 丙烯酸四氟丙基酯(2,2,3,3-Tetrafluoropropyl methacrylate) 、2,2,3,4,4,4-丙烯酸六氟丁基酯(2,2,3,4,4,4- Hexafluorobutyl acrylate)、2,2,3,3,3-甲基丙烯酸五氟丙 基酯(2,2,3,3,3-Pentafluoropropyl methacrylate)、2,2,3,3,4,4,4 -甲基丙烯酸七氟丁基酯(2 ,2,3,3,4,4,4-Heptafluorobutyl methacrylate)、2,2,3,3-甲基丙 烯酸四氟丙基酯(2,2,3,3-Tetrafluoropropyl methacrylate)、 2,2,3,4,4,4-甲基丙烯酸七氟丁基酯(2,2,3,4,4,4- Hexafluorobutyl methacrylate)或其混合。 11.一种抗反射膜层之制造方法,包括: 提供一基底,其上具有一预涂布面; 形成一由一抗反射涂覆组合物所组成之膜层于该 基底之预涂布面上;以及 提供一能量予该由抗反射涂覆组合物所组成之膜 层,俾使该抗反射涂覆组合物进行一聚合反应,以 于该基底之预涂布面上形成一抗反射膜层, 其中该抗反射涂覆组合物包括在一第一溶剂中均 匀溶液形式的: (a)起始剂;以及 (b)具有聚合能力之含氧化物凝胶, 其中该具有聚合能力之含氧化物凝胶(b)系包含(i) 由公式(I)化合物所形成之凝胶粒子(colloid particles) 与(ii)具有公式(II)之可聚合化合物进行缩合反应 后所得之具有可聚合官能基之凝胶粒子, 其中,Z系为3B族元素、4B族元素、5B族元素、钨(W) 、铍(Be)、钛(Ti)、锆(Zr)或锌(Zn);x及y系各别大于或 等于1;R1系为丙烯酸基、丙烯醯基、环氧基、胺基 、异氰酸盐基或具有反应性双键之官能基;R2为烷 基、卤烷基或其结合;n及m系各别大于或等于1,且m 及n之总和系不小于2;当n大于1时,每一R1系为相同 或不同之官能基;当m大于1时,每一R2系为相同或不 同之官能基;M系为矽、铝、锆、钛、锡或锑,且该 凝胶粒子(i)与该可聚合化合物(ii)之重量比系介于 10:1至1:10之间。 12.如申请专利范围第11项所述之抗反射膜层之制 造方法,其中该起始剂(a)之重量百分比系介于0.1至 10之间,上述重量百分比系以该具有聚合能力之含 氧化物凝胶(b)之重量为基准。 13.如申请专利范围第11项所述之抗反射膜层之制 造方法,其中该由公式(I)化合物所形成之凝胶粒子 (i)系为由氧化钨(WO3)、氧化锌(ZnO)、氧化矽(SiO2)、 氧化铝(Al2O3)、氧化钛(TiO2)、氧化锆(ZrO2)、氧化锡 (SnO2)、氧化铍(BeO)、氧化锑(Sb2O5)或其混合所形成 之凝胶粒子。 14.如申请专利范围第11项所述之抗反射膜层之制 造方法,其中该可聚合化合物(ii)系为3-(甲基丙烯 羰氧基)丙基三甲氧矽烷、3-甲基丙烯酸丙基三甲 氧矽烷、环氧丙醇三乙氧基矽烷、异氰硫酸盐丙 基三乙氧基矽烷、3-胺基三乙氧基矽烷、环氧丙 基氧丙基三乙氧基矽烷、四乙氧基矽烷、乙烯基 三乙氧基矽烷、乙烯基三甲氧基矽烷、或由铝、 锆、钛,锡、锑原子所衍生之具有丙烯酸基、丙烯 醯基、环氧基、胺基、异氰酸盐基或具有反应性 双键之含氧化合物。 15.如申请专利范围第11项所述之抗反射膜层之制 造方法,其中该抗反射涂覆组合物更包含: (c)可聚合有机化合物单体, 其中该可聚合有机化合物单体(c)与该具有聚合能 力之含氧化物凝胶(b)之重量比系介于10:1至1:10之 间。 16.如申请专利范围第11项所述之抗反射膜层之制 造方法,其中该凝胶粒子(i)之粒径范围系介于5至 150nm之间。 17.如申请专利范围第11项所述之抗反射膜层之制 造方法,其中该抗反射涂覆组合物更包含: (d)添加剂, 其中该添加剂(d)与该具有聚合能力之含氧化物凝 胶(b)之重量比系介于1:99至1:1之间,且该添加剂系 包括平坦剂、均化剂、助黏剂、填料、除沫剂或 其混合。 18.如申请专利范围第11项所述之抗反射膜层之制 造方法,其中该具有聚合能力之含氧化物凝胶(b)系 包含该具有可聚合官能基之凝胶粒子与(iii)含氟 之可聚合有机化合物单体进行混合或反应所得之 产物,而该凝胶粒子(i)、该可聚合化合物(ii)与该 含氟之可聚合有机化合物单体(iii)之重量比系介 于1:4:5至7:1:2之间。 19.如申请专利范围第11项所述之抗反射膜层之制 造方法,其中形成该抗反射涂覆组合物所组成之膜 层于该基材上之方法系为喷雾涂布法、浸渍涂布 法、线棒涂布法、流动涂布法、旋转涂布法、网 印法或卷带式涂布法。 20.如申请专利范围第11项所述之抗反射膜层之制 造方法,更包括形成一保护层于该抗反射膜层之上 。 21.如申请专利范围第20项所述之抗反射膜层之制 造方法,其中该保护层系包含由具有公式(II)之可 聚合化合物与具有公式(III)之化合物进行缩合反 应所得之产物, 其中,R1系为丙烯酸基、丙烯醯基、环氧基、胺基 、异氰酸盐基或具有反应性双键之官能基;R2为烷 基、卤烷基或其结合;n系大于或等于0,m系大于或 等于1,且m及n之总和系不小于2;当n大于1时,每一R1 系为相同或不同之官能基;当m大于1时,每一R2系为 相同或不同之官能基;i系大于或等于0,j系大于或 等于1,且i及j之总和系不小于2;当i或j大于1时,每一 R2系为相同或不同之官能基;M可为相同或不同之原 子,且M系为矽、铝、锆、钛、锡或锑。 22.一种抗反射膜层之制造方法,包括: 提供一基底,其上具有一预涂布面; 形成一由一抗反射涂覆组合物所组成之膜层于该 基底之预涂布面上,其中该抗反射涂覆组合物包括 在一第一溶剂中均匀溶液形式的: (a)0.1至10重量百分比之起始剂; (b)45至95重量百分比之具有聚合能力之含氧化物凝 胶;以及 (c)5至55重量百分比之模板材,上述重量百分比系以 该含氧化合物凝胶及该模板材之总重量为基准, 其中该具有聚合能力之含氧化物凝胶组合物(b)系 包含(i)由公式(I)化合物所形成之凝胶粒子(colloid particles)与(ii)具有公式(II)之可聚合化合物进行缩 合反应后所得之具有可聚合官能基之凝胶粒子, 其中,Z系为3B族元素、4B族元素、5B族元素、钨(W) 、铍(Be)、钛(Ti)、锆(Zr)或锌(Zn);x及y系各别大于或 等于1;R1系为丙烯酸基、丙烯醯基、环氧基、胺基 、异氰酸盐基或具有反应性双键之官能基;R2为烷 基、卤烷基或其结合;n及m系各别大于或等于1,且m 及n之总和系不小于2;当n大于1时,每一R1系为相同 或不同之官能基;当m大于1时,每一R2系为相同或不 同之官能基;M系为矽、铝、锆、钛、锡或锑,且该 凝胶粒子(i)与该可聚合化合物(ii)之重量比系介于 10:1至1:10之间; 提供一能量予该由抗反射涂覆组合物所组成之膜 层,俾使该抗反射涂覆组合物进行一聚合反应,以 于该基底之预涂布面上形成一混成层;以及 藉由一第二溶剂将该模板材由该混成层中溶出,以 形成一抗反射膜层。 23.如申请专利范围第22项所述之抗反射膜层之制 造方法,其中该由公式(I)化合物所形成之凝胶粒子 (i)系为由氧化钨(WO3)、氧化锌(ZnO)、氧化矽(SiO2)、 氧化铝(Al2O3)、氧化钛(TiO2)、氧化锆(ZrO2)、氧化锡 (SnO2)、氧化铍(BeO)、氧化锑(Sb2O5)或其混合所形成 之凝胶粒子。 24.如申请专利范围第22项所述之抗反射膜层之制 造方法,其中该可聚合化合物(ii)系为3-(甲基丙烯 羰氧基)丙基三甲氧矽烷、3-甲基丙烯酸丙基三甲 氧矽烷、环氧丙醇三乙氧基矽烷、异氰硫酸盐丙 基三乙氧基矽烷、3-胺基三乙氧基矽烷、环氧丙 基氧丙基三乙氧基矽烷、四乙氧基矽烷、乙烯基 三乙氧基矽烷、乙烯基三甲氧基矽烷、或由铝、 锆、钛,锡、锑原子所衍生之具有丙烯酸基、丙烯 醯基、环氧基、胺基、异氰酸盐基或具有反应性 双键之含氧化合物。 25.如申请专利范围第22项所述之抗反射膜层之制 造方法,其中该抗反射涂覆组合物更包含: (d)可聚合有机化合物单体, 其中该可聚合有机化合物单体(d)与该具有聚合能 力之含氧化物凝胶(b)之重量比系介于10:1至1:10之 间。 26.如申请专利范围第22项所述之抗反射膜层之制 造方法,其中该凝胶粒子(i)之粒径范围系介于5至 150nm之间。 27.如申请专利范围第22项所述之抗反射膜层之制 造方法,其中该抗反射涂覆组合物更包含: (e)添加剂, 其中该添加剂(e)与该具有聚合能力之含氧化物凝 胶(b)之重量比系介于1:99至1:1之间,且该添加剂系 包括平坦剂、均化剂、助黏剂、填料、除沫剂或 其混合。 28.如申请专利范围第22项所述之抗反射膜层之制 造方法,其中该具有聚合能力之含氧化物凝胶(b)系 包含该具有可聚合官能基之凝胶粒子与(iii)含氟 之可聚合有机化合物单体进行混合或反应所得之 产物,而该凝胶粒子(i)、该可聚合化合物(ii)与该 含氟之可聚合有机化合物单体(iii)之重量比系介 于1:4:5至7:1:2之间。 29.如申请专利范围第22项所述之抗反射膜层之制 造方法,其中形成该该抗反射涂覆组合物所组成之 膜层于该基材上之方法系为喷雾涂布法、浸渍涂 布法、线棒涂布法、流动涂布法、旋转涂布法、 网印法或卷带式涂布法。 30.如申请专利范围第22项所述之抗反射膜层之制 造方法,其中该模版材系为非反应型之有机化合物 、寡聚物、聚合物或其混合物。 31.如申请专利范围第22项所述之抗反射膜层之制 造方法,更包括形成一保护层于该抗反射膜层之上 。 32.如申请专利范围第31项所述之抗反射膜层之制 造方法,其中该保护层系包含由具有公式(II)之可 聚合化合物与具有公式(III)之化合物进行缩合反 应所得之产物, 其中,R1系为丙烯酸基、丙烯醯基、环氧基、胺基 、异氰酸盐基或具有反应性双键之官能基;R2为烷 基、卤烷基或其结合;n系大于或等于0,m系大于或 等于1,且m及n之总和系不小于2;当n大于1时,每一R1 系为相同或不同之官能基;当m大于1时,每一R2系为 相同或不同之官能基;i系大于或等于0,j系大于或 等于1,且i及j之总和系不小于2;当i或j大于1时,每一 R2系为相同或不同之官能基;M可为相同或不同之原 子,且M系为矽、铝、锆、钛、锡或锑。 33.一种抗反射膜层,系为经下列步骤后所得之产物 : 形成一由一抗反射涂覆组合物所组成之膜层于一 基底之一预涂布面上;以及 提供一能量予该由抗反射涂覆组合物所组成之膜 层,俾使该抗反射涂覆组合物进行一聚合反应,以 于该基底之预涂布面上形成一抗反射膜层, 其中该抗反射涂覆组合物包括在一第一溶剂中均 匀溶液形式的: (a)起始剂;以及 (b)具有聚合能力之含氧化物凝胶, 其中该具有聚合能力之含氧化物凝胶(b)系包含(i) 由公式(I)化合物所形成之凝胶粒子(colloid particles) 与(ii)具有公式(II)之可聚合化合物进行缩合反应 后所得之产物, 其中,Z系为3B族元素、4B族元素、5B族元素、钨(W) 、铍(Be)、钛(Ti)、锆(Zr)或锌(Zn);x及y系各别大于或 等于1;R1系为丙烯酸基、丙烯醯基、环氧基、胺基 、异氰酸盐基或具有反应性双键之官能基;R2为烷 基、卤烷基或其结合;n及m系各别大于或等于1,且m 及n之总和系不小于2;当n大于1时,每一R1系为相同 或不同之官能基;当m大于1时,每一R2系为相同或不 同之官能基;M系为矽、铝、锆、钛、锡或锑,且该 凝胶粒子(i)与该可聚合化合物(ii)之重量比系介于 10:1至1:10之间, 其中,该抗反射光学薄膜之膜厚系介于50nm至500nm之 间,且其有效折射率(neff)系为1.45以下、反射率系 不大于3%、穿透度系不低于93%,薄膜雾度介于0.5%至 1.5%之间。 34.如申请专利范围第33项所述之抗反射膜层,更包 括一保护层形成于该抗反射膜层之上。 35.如申请专利范围第34项所述之抗反射膜层,其中 该保护层系包含由具有公式(II)之可聚合化合物与 具有公式(III)之化合物进行缩合反应所得之产物, 其中,R1系为丙烯酸基、丙烯醯基、环氧基、胺基 、异氰酸盐基或具有反应性双键之官能基;R2为烷 基、卤烷基或其结合;n系大于或等于0,m系大于或 等于1,且m及n之总和系不小于2;当n大于1时,每一R1 系为相同或不同之官能基;当m大于1时,每一R2系为 相同或不同之官能基;i系大于或等于0,j系大于或 等于1,且i及j之总和系不小于2;当i或j大于1时,每一 R2系为相同或不同之官能基;M可为相同或不同之原 子,且M系为矽、铝、锆、钛、锡或锑。 36.如申请专利范围第33项所述之抗反射膜层,其铅 笔硬度系不低于F。 37.一种抗反射膜层,系为经下列步骤后所得之产物 : 形成一由一抗反射涂覆组合物所组成之膜层于一 基底之一预涂布面上; 提供一能量予该由抗反射涂覆组合物所组成之膜 层,俾使该抗反射涂覆组合物进行一聚合反应,以 于该基底之预涂布面上形成一混成层,其中该抗反 射涂覆组合物包括在一第一溶剂中均匀溶液形式 的: (a)0.1至10重量百分比之起始剂; (b)55至95重量百分比之具有聚合能力之含氧化物凝 胶;以及 (c)5至45重量百分比之模板材,上述重量百分比系以 该含氧化合物凝胶及该模板材之总重量为基准, 其中该具有聚合能力之含氧化物凝胶组合物(b)系 包含(i)由公式(I)化合物所形成之凝胶粒子(colloid particles)与(ii)具有公式(II)之可聚合化合物进行缩 合反应后所得之产物, 其中,Z系为3B族元素、4B族元素、5B族元素、钨(W) 、铍(Be)、钛(Ti)、锆(Zr)或锌(Zn);x及y系各别大于或 等于1;R1系为丙烯酸基、丙烯醯基、环氧基、胺基 、异氰酸盐基或具有反应性双键之官能基;R2为烷 基、卤烷基或其结合;n及m系各别大于或等于1,且m 及n之总和系不小于2;当n大于1时,每一R1系为相同 或不同之官能基;当m大于1时,每一R2系为相同或不 同之官能基;M系为矽、铝、锆、钛,锡、锑,且该凝 胶粒子(i)与该可聚合化合物(ii)之重量比系介于10: 1至1:10之间;以及 藉由一第二溶剂将该模板材由该混成层中溶出,以 形成一抗反射膜层, 其中,该抗反射光学薄膜之膜厚系介于50nm至500nm之 间,且其有效折射率(neff)系为1.45以下、反射率系 不大于3%、穿透度系不低于93%,薄膜雾度介于0.5%至 1.5%之间。 38.如申请专利范围第37项所述之抗反射膜层,更包 括一保护层形成于该抗反射膜层之上。 39.如申请专利范围第38项所述之抗反射膜层,其中 该保护层系包含由具有公式(II)之可聚合化合物与 具有公式(III)之化合物进行缩合反应所得之产物, 其中,R1系为丙烯酸基、丙烯醯基、环氧基、胺基 、异氰酸盐基或具有反应性双键之官能基;R2为烷 基、卤烷基或其结合;n系大于或等于0,m系大于或 等于1,且m及n之总和系不小于2;当n大于1时,每一R1 系为相同或不同之官能基;当m大于1时,每一R2系为 相同或不同之官能基;i系大于或等于0,j系大于或 等于1,且i及j之总和系不小于2;当i或j大于1时,每一 R2系为相同或不同之官能基;M可为相同或不同之原 子,且M系为矽、铝、锆、钛、锡或锑。 40.如申请专利范围第37项所述之抗反射膜层,其铅 笔硬度系不低于F。 41.一种抗反射膜层,系为经下列步骤后所得之产物 : 形成一由一抗反射涂覆组合物所组成之膜层于一 基底之一预涂布面上; 提供一能量予该由抗反射涂覆组合物所组成之膜 层,俾使该抗反射涂覆组合物进行反应,以于该基 底之预涂布面上形成一混成层,其中该抗反射涂覆 组合物包括在一第一溶剂中均匀溶液形式的: (a)45至95重量百分比之含氧化物凝胶;以及 (b)5至55重量百分比之模板材,上述重量百分比系以 该含氧化合物凝胶及该模板材之总重量为基准, 其中该具有聚合能力之含氧化物凝胶组合物(b)系 包含(i)由公式(I)化合物所形成之凝胶粒子(colloid particles)与(ii)具有公式(II)之化合物进行缩合反应 后所得之产物, 其中,Z系为3B族元素、4B族元素、5B族元素、钨(W) 、铍(Be)、钛(Ti)、锆(Zr)或锌(Zn);x及y系各别大于或 等于1;R1系为丙烯酸基、丙烯醯基、环氧基、胺基 、异氰酸盐基或具有反应性双键之官能基;R2为烷 基、卤烷基或其结合;n系大于或等于0,m系大于或 等于1,且m及n之总和系不小于2;当n大于1时,每一R1 系为相同或不同之官能基;当m大于1时,每一R2系为 相同或不同之官能基;M系为矽、铝、锆、钛、锡 或锑,且该凝胶粒子(i)与该可聚合化合物(ii)之重 量比系介于10:1至1:10之间;以及 藉由一第二溶剂将该模板材由该混成层中溶出,以 形成一抗反射膜层, 其中,该抗反射光学薄膜之膜厚系介于50nm至500nm之 间,且其有效折射率(neff)系为1.45以下、反射率系 不大于3%、穿透度系不低于93%,薄膜雾度介于0.5%至 1.5%之间。 42.如申请专利范围第41项所述之抗反射膜层,更包 括一保护层形成于该抗反射膜层之上。 43.如申请专利范围第42项所述之抗反射膜层,其中 该保护层系包含由具有公式(II)之可聚合化合物与 具有公式(III)之化合物进行缩合反应所得之产物, 其中,R1系为丙烯酸基、丙烯醯基、环氧基、胺基 、异氰酸盐基或具有反应性双键之官能基;R2为烷 基、卤烷基或其结合;n系大于或等于0,m系大于或 等于1,且m及n之总和系不小于2;当n大于1时,每一R1 系为相同或不同之官能基;当m大于1时,每一R2系为 相同或不同之官能基;i系大于或等于0,j系大于或 等于1,且i及j之总和系不小于2;当i或j大于1时,每一 R2系为相同或不同之官能基;M可为相同或不同之原 子,且M系为矽、铝、锆、钛、锡或锑。 图式简单说明: 第1图系绘示一习知氧化矽凝胶抗反射薄膜之示意 图。 第2图系绘示本发明之一较佳实施例所述之抗反射 膜层的剖面结构示意图。 第3a及3b图系绘示本发明之一较佳实施例所述之抗 反射膜层制造方法之剖面结构示意图。 第4图系显示实施例20所形成之抗反射膜层其穿透 率与波长的关系图。 第5图系显示实施例20所形成之抗反射膜层其反射 率与波长的关系图。 第6图系显示实施例24所形成之抗反射膜层其截面 之电子显微镜照片。 |
