| 主权项 |
1.一种琉璃瓦结构改良,其系包括: 一琉璃瓦本体,该琉璃瓦本体之两侧边,分别具有 波浪状之第一凹弧部及第二凹弧部; 一下遮板,该下遮板设于琉璃瓦本体之下方;该下 遮板系包括一板体,该板体之一侧朝上弯折形成一 第一连结部,并使该第一连结部可靠贴于上方琉璃 瓦本体第一凹弧部之一侧;该板体之另一侧,朝外 延伸后再朝内弯折一水平延伸部,该水平延伸部则 朝上弯折形成一第二连结部,并使该第二连结部可 靠贴于上方琉璃瓦本体第二凹弧部之一侧;以及, 一发泡层,该发泡层系位于琉璃瓦本体与下遮板之 第一、第二连结部之间。 2.如申请专利范围第1项所述之琉璃瓦结构改良,其 中,该第一连结部包括由板体一侧朝上弯折之第一 侧板,该第一侧板朝板体方向水平延伸一第一平板 ,该第一平板则朝板体方向且往上倾斜延伸出第一 贴合板,该第一贴合板靠贴于第一凹弧部。 3.如申请专利范围第2项所述之琉璃瓦结构改良,其 中,该第一贴合板黏贴有纸。 4.如申请专利范围第1项所述之琉璃瓦结构改良,其 中,该第二连结部包括由水平延伸部自由端朝上弯 折之第二侧板,该第二侧板朝板体方向水平延伸一 第二平板,该第二平板则往上且朝板体内倾斜成第 二斜板,该第二斜板朝板体且往下倾斜有第二贴合 板,该第二贴合板靠贴于第二凹弧部。 5.如申请专利范围第4项所述之琉璃瓦结构改良,其 中,该第二贴合板黏贴有纸。 图式简单说明: 第一图系本创作之外观示意图。 第二图系本创作之分解示意图。 第三图系本创作两琉璃瓦紧密结合之组合状态示 意图。 第四图系本创作两琉璃瓦结合后具缝细之状态示 意图。 第五图系本创作由下往上看两琉璃瓦结合后缝细 由水平延伸部遮挡之示意图。 第六图系习用由下往上看两琉璃瓦结合后具缝细 之示意图。 |
