| 主权项 |
1.一种照射一层的方法,其包括: 藉由至少一光学元件将一辐射光束引导且聚焦至 该层的一点处; 让该层相对于该至少一光学元件进行相对移动,致 使连续地照射该层的不同部份,并且于最靠近该层 之该至少一光学元件的表面间维持一间隙;以及 该间隙中让该辐射照射该层上该点的至少一部份 必须维持充满液体,该液体可透过一供应导管来供 应并且从一流出开口中流出; 其特征为可让该液体流出的至少一流出开口,该至 少一流出开口的形式为一开口朝向该层的至少一 沟渠,该沟渠可沿着该沟渠于纵向方向中来分布所 供应的液体且将已分布的液体朝该层散布。 2.如申请专利范围第1项之方法,其中从垂直该层的 方向看去,该沟渠或该等沟渠的位置可让该等沟渠 界定一总投影剖面区,该总投影剖面区的中心系位 于该间隙中让该辐射照射该点的该部份之中。 3.如申请专利范围第1或2项之方法,其中该等间隙 的最小厚度系被维持在3-1500m。 4.如申请专利范围第1项之方法,其中该液体中至少 一部份会注满一凹窝,该辐射会透过该凹窝来照射 该点。 5.如申请专利范围第4项之方法,其中该凹窝具有一 最靠近该层的框条部份,该框条系延伸在照射该点 的该辐射附近。 6.如申请专利范围第4或5项之方法,其中该凹窝包 括最靠近该层之该至少一光学元件的该表面的凹 面部份。 7.一种用以将辐射引导至一层的装置,其包括: 至少一光学元件,用以将源自该辐射源的辐射光束 聚焦至该层上的一点处; 一移动结构,用以让该层相对于该至少一光学元件 进行相对移动,致使连续地照射该层的不同部份, 并且于该层和最靠近该点之该至少一光学元件的 表面间维持一间隙;以及 一流出开口,用以将液体供应至该间隙中于作业中 让该辐射照射该层上该点的至少一部份,该流出开 口于垂直该辐射光束之轴的平面中具有一总投影 剖面通道区; 其特征为该至少一流出开口的形式为开口朝向该 层的至少一沟渠,用以沿着该沟渠于纵向方向中来 分布所供应的液体,并且将已分布的液体朝该层散 布。 8.如申请专利范围第7项之装置,其中从平行该辐射 光束之该轴的方向看去,该流出开口或该等复数个 流出开口的位置可使得该总剖面区的中心位于该 间隔中让该辐射照射该点的部份之中。 9.如申请专利范围第7或8项之装置,其中该移动结 构和凹窝的位置和尺寸可将该间隙的最小厚度维 持在3至1500m。 10.如申请专利范围第7或8项之装置,其中于面向该 点的表面中有一凹窝,该凹窝的内表面会限制该间 隙中让该辐射照射该点的至少该部份。 11.如申请专利范围第10项之装置,其中该凹窝具有 一最靠近该层的框条部份,该框条系延伸在该间隙 中并于作业中让该辐射照射该点的至少该部份附 近。 12.如申请专利范围第10项之装置,其中该凹窝包括 最靠近该点之该至少一光学元件的该表面的凹面 部份。 图式简单说明: 图1为用以将辐射引导至一层上之一点处的装置范 例的概略侧面图; 图2为如图1所示之装置的光学系统的第一范例的 远端部的概略剖面图,图中显示出将辐射引导至其 上的一层以及于作业中所保持的液体流; 图3为沿着图2中直线III-III的概略仰视图; 图4为如图1所示之装置的光学系统的第三范例的 远端部的概略剖面图,图中显示出将辐射引导至其 上的一层以及于作业中所保持的液体流; 图5为沿着图4中直线V-V的概略仰视图;以及 图6为用于光学微影术中的晶圆步进机/扫描机的 概略俯视平面图。 |
