发明名称 制备聚伸烷基碳酸酯之方法
摘要 本发明系关于一种于至少一种含金属有机框架物质之触媒存在下,于二氧化碳或任何可递送氧化碳之物质存在下自氧化烯烃或烯烃氧化物先质之开环作用得到聚伸烷基碳酸酯(一种交替共聚物)之制法,其中该框架物质包含细孔及一种金属离子与一种至少双配位基有机化合物,该双配位基有机化合物与该金属离子配位性结合。
申请公布号 TWI288148 申请公布日期 2007.10.11
申请号 TW092129604 申请日期 2003.10.24
申请人 巴地斯颜料化工厂;美国密西根州立大学 THE REGENTS OF THE UNIVERSITY OF MICHIGAN 美国 发明人 奥瑞克 慕勒;葛瑞特 路恩史多拉;欧马M. 亚格西;欧尔格 米特尔基纳;麦可 史多瑟
分类号 C08G64/34(2006.01);C07F3/06(2006.01) 主分类号 C08G64/34(2006.01)
代理机构 代理人 陈长文 台北市松山区敦化北路201号7楼
主权项 1.一种于触媒存在下自二氧化碳或递送二氧化碳 之物质及氧化烯烃或氧化烯烃先质制备聚伸烷基 碳酸酯之方法,其中该触媒为含有包含细孔及至少 一种金属离子及至少一种与该金属离子配位性结 合之至少双配位基有机化合物之金属-有机框架材 料,及其中该至少一种金属-有机框架触媒之金属 离子系选自Mg2+,Ca2+,Sr2+,Ba2+,Sc3+,Y3+,Ti4+,Zr4+,Hf4+,V4+,V 3+,V2+,Nb3+,Ta3+,Cr3+,Mo3+,W3+,Mn3+,Mn2+,Re3+,Re2+,Fe3+,Fe2+,Ru3 +,Ru2+,Os3+,Os2+,Co3+,Co2+,Rh2+,Rh+,Ir2+,Ir+,Ni2+,Ni+,Pd2+,Pd+, Pt2+,Pt+,Cu2+,Cu+,Ag+,Au+,Zn2+,Cd2+,Hg2+,Al3+,Ga3+,In3+,Tl3+,Si4 +,Si2+,Ge4+,Ge2+,Sn4+,Sn2+,Pb4+,Pb2+,As5+,As3+,As+,Sb5+,Sb3+,Sb+ ,Bi5+,Bi3+,Bi+及其中该至少一种至少双配位基有机 化合物系选自由经取代或未经取代、单-或多族芳 香族二-、三-及四羧酸,及经取代或未经取代、芳 香族、含至少一个杂原子之芳香族二-、三-及四 羧酸,其具有一或多个核。 2.根据申请专利范围第1项之方法,其特征为该金属 -有机框架触媒含有Zn2+作为金属离子组份。 3.根据申请专利范围第1项之方法,其特征为该至少 双配位基有机化合物系选自具有一或两个含至少 两个羧基之苯基环之芳基。 4.根据申请专利范围第3项之方法,其特征为该至少 双配位基有机化合物系选自对-酸或2,5-二羟基 对-酸。 5.根据申请专利范围第1至4项任一项之方法,其特 征为该氧化烯烃系选自由环氧乙烷、环氧丙烷及 环己烯氧化物所组成之群组。 图式简单说明: 图1表示该横轴(x轴)为以度数为单位表示之x射线 统射角度2,而该直轴(y轴)表示以对数比率为基 准及呈任意单位之该绕射强度。 图2表示该横轴(x轴)为以度数为单位表示之x射线 绕射角度2,而该直轴(y轴)表示以对数比率为基 准及呈任意单位之该绕射强度。
地址 德国