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发明名称 Verfahren zur Entfernung eines eine Siliciumverbindung oder eine Germaiumverbindung enthaltenden Photoresists
摘要
申请公布号 DE4419237(B4) 申请公布日期 2007.10.11
申请号 DE19944419237 申请日期 1994.06.01
申请人 HYUNDAI ELECTRONICS INDUSTRIES CO. LTD. 发明人 KIM, HYEONG SOO;WON, TAI KYUNG
分类号 G03F7/38;H01L21/302;G03F7/36;H01L21/027;H01L21/3065;H01L21/311;H01L21/312 主分类号 G03F7/38
代理机构 代理人
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