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发明名称 Verfahren zum Belichten eines fotoempfindlichen Lackes auf einem Halbleiterwafer
摘要
申请公布号 DE10305618(B4) 申请公布日期 2007.10.11
申请号 DE20031005618 申请日期 2003.02.11
申请人 INFINEON TECHNOLOGIES AG 发明人 GOETSCHKES, UDO;MOELLER, HOLGER;ROGALLI, MICHAEL;REB, ALEXANDER;TRINOWITZ, REINER
分类号 G03F7/20;G03F1/00;G03F1/08;G03F7/00;G03F7/09;G03F7/095 主分类号 G03F7/20
代理机构 代理人
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