| 发明名称 |
VORRICHTUNG UND VERFAHREN ZUM REINIGEN UND TROCKNEN VON BEI DER HERSTELLUNG VON HALBLEITERN VERWENDETEN GEGENSTÄNDEN, INSBESONDERE VON TRANSPORT- UND REINIGUNGSBEHÄLTERN FÜR WAFER |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
DE502004004812(D1) |
申请公布日期 |
2007.10.11 |
| 申请号 |
DE200450004812T |
申请日期 |
2004.04.08 |
| 申请人 |
DYNAMIC MICROSYSTEMS SEMICONDUCTOR EQUIPMENT GMBH |
发明人 |
MORAN, THOMAS;REBSTOCK, LUTZ |
| 分类号 |
H01L21/00;B08B9/08;B08B9/093;H01L |
主分类号 |
H01L21/00 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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