| 摘要 |
<p>Die Erfindung betrifft eine Vorrichtung (1) und ein Verfahren zum Beschichten eines mikro- und/oder nanostrukturierten Struktursubstrats (8). Erfindungsgemäß erfolgt die Beschichtung in einer Vakuumkammer (3). Während oder nach der Beschickung der Vakuumkammer (3) mit Beschichtungssubstanz wir das Druckniveau in der Vakuumkammer (3) erhöht.</p> |
