| 发明名称 |
Verfahren zur Aberrationsmessung in einem optischen Abbildungssystem |
| 摘要 |
|
| 申请公布号 |
DE60130160(D1) |
申请公布日期 |
2007.10.11 |
| 申请号 |
DE20016030160 |
申请日期 |
2001.02.21 |
| 申请人 |
ASML NETHERLANDS B.V. |
发明人 |
VAN DER LAAN, HANS;MOERS, MARCO HUGO PETRUS |
| 分类号 |
G01M11/02;G03F7/20;G02B13/24;H01L21/027 |
主分类号 |
G01M11/02 |
| 代理机构 |
|
代理人 |
|
| 主权项 |
|
| 地址 |
|
