发明名称 Plasma processing apparatus
摘要 <p>Zarízení sestává z prostredku na vytvárení výbojeplazmatu a prostredku na ohranicení tohoto výbojeplazmatu v magnetickém poli. Nejméne jeden pár prvního otocného systému (1) permanentních magnetu (3) a druhého otocného systému (2) permanentních magnetu (3) obsahuje jednotlivé permanentní magnety (3) a tyto otocné systémy (1, 2) permanentních magnetu (3) jsou umísteny proti sobe. Jednotlivé permanentní magnety (3) mají maximální magnetickou indukci vyšší než 10.sup.-1.n. tesla. Pohonný systém (4) je uzpusoben k pohánení pohybu permanentních magnetu (3) v otocných systémech (1, 2) permanentních magnetu (3). Základní zarízení (5) na zpracování plazmatem je prítomno v kombinaci s otocnými systémy (1, 2) permanentních magnetu (3) uzpusobenýmipro vytvárení casove promenných magnetických silocar (6) a pro ovlivnování plazmatu (7) vytvárenéhozákladním zarízením (5) na zpracování plazmatem. Rídicí systém (11), obsahující systém (12) cidel asystém (13) zpetné vazby, je spojen s pohonným systémem (4) a je uzpusoben k rízení pohybu permanentních magnetu (3) v otocných systémech (1, 2) permanentních magnetu (3) s ohledem na zmeny v plazmatu (7).</p>
申请公布号 CZ298474(B6) 申请公布日期 2007.10.10
申请号 CZ20000001853 申请日期 1998.11.03
申请人 发明人 BARANKOVA HANA;BARDOS LADISLAV
分类号 H05H1/02;H05H1/46;C23C14/34;H01J37/34;H05H1/14;H05H1/50 主分类号 H05H1/02
代理机构 代理人
主权项
地址