| 发明名称 | 基板处理装置 | ||
| 摘要 | 提供一种在收存器内的氛围气体中存在空气流时、能不受空气流的影响而使整个基板的处理结果均匀的基板处理装置。在实施边通过搬运辊(15)移动基板(W)边从喷出喷嘴(20)向基板(W)喷出等离子气体而去除附着在基板(W)上的有机物的处理时，在喷出喷嘴(20)的正下方附近的与基板(W)的行进方向平行的位置处配置2枚侧面整流板(30)，并在喷出喷嘴(20)的下方配置下部整流板(31)。这样，由于通过设置侧面整流板(30)和下部整流板(31)，能够对处理室(10)内的空气流(FL12)进行整流，并能够使等离子气体的气体流(FL11)在基板(W)的端缘部和部均匀，所以能够在整个基板(W)上使有机物的去除处理结果均匀。 | ||
| 申请公布号 | CN100341631C | 申请公布日期 | 2007.10.10 |
| 申请号 | CN200310104328.X | 申请日期 | 2003.10.24 |
| 申请人 | 大日本屏影象制造株式会社 | 发明人 | 芳谷光明 |
| 分类号 | B08B5/00(2006.01);H01L21/304(2006.01) | 主分类号 | B08B5/00(2006.01) |
| 代理机构 | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人 | 张天安;杨松龄 |
| 主权项 | 1.一种基板处理装置，其特征在于，包括：(a)处理室；(b)配设在上述处理室内并从存在于上述处理室内的基板的上方相对于上述基板喷出处理流体的喷出机构；(c)使上述基板沿规定的搬运路径移动的移动机构；(d)设于上述基板的附近并对上述基板附近的气流进行整流的整流机构。 | ||
| 地址 | 日本京都府京都市 | ||