发明名称 |
多模式成像的设备和方法 |
摘要 |
用于对物体成像的成像系统。成像系统包括适于以固定状态容纳物体的支撑构件。系统还包括用于在第一成像模式中对该固定的物体成像以俘获第一图像的第一装置、和用于在与第一成像模式不同的第二成像模式中对该固定的物体成像以俘获第二图像的第二装置。第一成像模式选自以下组:x射线模式和放射性同位素模式。第二成像模式选自以下组:亮场模式和暗场模式。当俘获第一图像时使用可移除的荧光屏,而当俘获第二图像时不使用该荧光屏。荧光屏适于将电离辐射转换为可见光。荧光屏适于在不移动该固定物体的情况下可移除。系统进一步包括产生由第一和第二图像组成的第三图像的装置。 |
申请公布号 |
CN101052869A |
申请公布日期 |
2007.10.10 |
申请号 |
CN200580031808.5 |
申请日期 |
2005.09.12 |
申请人 |
伊斯曼柯达公司 |
发明人 |
D·L·维扎德;J·N·赫尔菲尔;G·布洛克西珀;W·E·麦克劳克林 |
分类号 |
G01N23/04(2006.01);G01N21/76(2006.01);G01N21/64(2006.01) |
主分类号 |
G01N23/04(2006.01) |
代理机构 |
中国专利代理(香港)有限公司 |
代理人 |
程天正;陈景峻 |
主权项 |
1.一种用于对物体成像的成像系统,包括:适于以固定的状态容纳物体的支撑构件;适于将电离辐射转换成可见光的可移除的荧光屏;用于在第一成像模式中对固定的物体成像以俘获第一图像的第一成像装置;和用于在不同于第一成像模式的第二成像模式中对该固定的物体成像以俘获第二图像的第二成像装置,其中该第一和第二成像模式选自以下组:亮场模式、荧光模式、发光模式、x射线模式和放射性同位素模式。 |
地址 |
美国纽约州 |