| 发明名称 | 生产光波导的方法 | ||
| 摘要 | 本发明涉及生产光波导的方法，其包括在基材表面上形成下覆层；在该下覆层上形成光敏树脂组合物层；用紫外线通过具有给定图案的光掩膜辐照该光敏树脂组合物层的表面以进行曝光；在曝光之后，通过用显影液溶解该光敏树脂组合物层的未曝光区域而除去该层的未曝光区域，从而形成芯层；以及在该芯层上形成上覆层，其中所述的显影液是浓度为10－99重量％的γ－丁内酯水溶液。根据该方法，可以得到其中芯层本身以及所述芯层与所述下覆层之间的界面均不裂缝且具有小的光损失的光波导。 | ||
| 申请公布号 | CN101051102A | 申请公布日期 | 2007.10.10 |
| 申请号 | CN200710092031.4 | 申请日期 | 2007.04.04 |
| 申请人 | 日东电工株式会社 | 发明人 | 清水裕介 |
| 分类号 | G02B6/138(2006.01);G02B6/13(2006.01) | 主分类号 | G02B6/138(2006.01) |
| 代理机构 | 中原信达知识产权代理有限责任公司 | 代理人 | 梁晓广;陆锦华 |
| 主权项 | 1.生产光波导的方法，其包括：在基材表面上形成下覆层；在所述下覆层上形成光敏树脂组合物层；用紫外线通过具有给定图案的光掩膜辐照所述光敏树脂组合物层的表面以进行曝光；在曝光之后，通过用显影液溶解所述光敏树脂组合物层的未曝光区域而除去该层的未曝光区域，从而形成芯层；以及在所述芯层上形成上覆层，其中所述的显影液是浓度为10-99重量％的γ-丁内酯水溶液。 | ||
| 地址 | 日本大阪 | ||