发明名称 | 平面式磁控溅射便携插件式增磁装置 | ||
摘要 | 平面式磁控溅射便携插件式增磁装置,包括:附加中心圆柱形永磁强磁体、附加环形永磁强磁体、内散热环和外散热环、阴极罩和阳极罩,附加中心圆柱形永磁强磁体和附加环形永磁强磁体分别和设备阴极靶位固有的内置中心圆柱形永磁强磁体和内置环形永磁强磁体同极性相互加强对应放置;在附加中心圆柱形永磁强磁体和附加环形永磁强磁体之间放置内散热环,在附加环形永磁强磁体外放置外散热环;靶材和外散热环分别罩有阴极罩和阳极罩,用于固定保护靶材和外散热环;附加中心圆柱形永磁强磁体和附加环形永磁强磁体除了与阴极靶位平面接触外,均不与内散热环、外散热环和靶材接触。本发明在现有平面式磁控溅射装置的基础上,在不对原装置上的设备进行改造的前提下,成膜率大大提高。 | ||
申请公布号 | CN101050520A | 申请公布日期 | 2007.10.10 |
申请号 | CN200710099492.4 | 申请日期 | 2007.05.23 |
申请人 | 北京航空航天大学 | 发明人 | 刁训刚;王怀义;杜心康;杨海刚;郝维昌;王天民 |
分类号 | C23C14/35(2006.01) | 主分类号 | C23C14/35(2006.01) |
代理机构 | 北京科迪生专利代理有限责任公司 | 代理人 | 贾玉忠;卢纪 |
主权项 | 1、平面式磁控溅射便携插件式增磁装置,其特征在于包括:附加中心圆柱形永磁强磁体(1)、附加环形永磁强磁体(2)、内散热环(3)和外散热环(4)、阴极罩(5)和阳极罩(6),附加中心圆柱形永磁强磁体(1)和附加环形永磁强磁体(2)分别和设备阴极靶位固有的内置中心圆柱形永磁强磁体(8)和内置环形永磁强磁体(9)同极性相互加强对应放置;在附加中心圆柱形永磁强磁体(1)和附加环形永磁强磁体(2)之间放置内散热环(3),在附加环形永磁强磁体(2)外放置外散热环(4);靶材(7)和外散热环(4)分别罩有阴极罩(5)和阳极罩(6),用于固定保护靶材(7)和外散热环(4);附加中心圆柱形永磁强磁体(1)和附加环形永磁强磁体(2)与阴极靶位平面(10)接触,不与内散热环(3)、外散热环(4)和靶材(7)接触。 | ||
地址 | 100083北京市海淀区学院路37号 |