发明名称 |
光学多层膜滤波器及其制造方法和电子设备装置 |
摘要 |
本发明的课题是提供一种不使光学性质劣化且能够长时间保持防电效果的光学多层膜滤波器及其制造方法和电子设备装置。作为解决手段,光学多层膜滤波器(10)具有形成于基板(1)上的由多层构成的无机薄膜(2),构成所述无机薄膜的最表层的氧化硅层的密度为1.9g/cm<SUP>3</SUP>~2.2g/cm<SUP>3</SUP>。 |
申请公布号 |
CN101051093A |
申请公布日期 |
2007.10.10 |
申请号 |
CN200710095805.9 |
申请日期 |
2007.04.04 |
申请人 |
精工爱普生株式会社 |
发明人 |
澁谷宗裕 |
分类号 |
G02B1/10(2006.01);G02B1/11(2006.01);G02B5/20(2006.01);G03B11/04(2006.01) |
主分类号 |
G02B1/10(2006.01) |
代理机构 |
北京三友知识产权代理有限公司 |
代理人 |
黄纶伟 |
主权项 |
1.一种光学多层膜滤波器,该光学多层膜滤波器具有无机薄膜,所述无机薄膜形成于基板上、且所述无机薄膜由多层构成,所述光学多层膜滤波器的特征在于,构成所述无机薄膜的最表层的氧化硅层的密度为1.9g/cm3~2.2g/cm3。 |
地址 |
日本东京 |