发明名称 APPARATUS FOR REDUCING PARTICLE RESIDUES IN A SEMICONDUCTOR PROCESSING CHAMBER
摘要
申请公布号 KR100764983(B1) 申请公布日期 2007.10.09
申请号 KR20010060636 申请日期 2001.09.28
申请人 发明人
分类号 H01L21/00;C23C16/44;H01L21/205 主分类号 H01L21/00
代理机构 代理人
主权项
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