New porogenated organic precursor e.g. 1-methyl-4-(1-methylethyl)-7-oxabicyclo(2.2.1)heptane useful to obtain a dielectric material i.e. is useful to form electrical insulation layers for integrated circuits

摘要

L'invention concerne des précurseurs porogènes ainsi que des couches poreuses de matériaux diélectriques obtenues à partir de ces précurseurs porogènes et de précurseurs matrices.Selon l'invention, les précurseurs porogènes utilisés sont choisis parmi les molécules de 1,4 cineole, 1,8 cineole, oxyde de limonène, trivertal, leurs isomères de position et leurs dérivés substitués ou hydrogénés.La constante diélectrique de la couche obtenue est inférieure ou égale à 2,5 ,en partant de précurseurs matrices de constante diélectrique inférieure ou égale à 4.