首页
产品
黄页
商标
征信
会员服务
注册
登录
全部
|
企业名
|
法人/股东/高管
|
品牌/产品
|
地址
|
经营范围
发明名称
DEVICE AND METHOD FOR CONTROLLING THE HIGH DENSITY PLASMA CHEMICAL VAPOR DEPOSITION
摘要
申请公布号
KR100763681(B1)
申请公布日期
2007.10.04
申请号
KR20050132759
申请日期
2005.12.28
申请人
发明人
分类号
H01L21/205
主分类号
H01L21/205
代理机构
代理人
主权项
地址
您可能感兴趣的专利
鳥害防止具
リアルタイム灌流イメージング及び定量化
情報処理システム、サーバ装置、クライアント装置および制御方法
内燃機関の排気浄化装置
コネクタモジュールの補強装置
電力供給システム
多極同時肺動脈高周波アブレーションカテーテル
スロットマシン
空気調和機リモコンおよび室内機
アクティブロールコントロール装置
復号方法および符号化方法
METHOD, TERMINAL AND SERVER FOR AUTOMATICALLY PUSHING DELIVERY INFORMATION AND PROVIDING COLLECTION INFORMATION
Shift Trader Mobile Application
WASTE MANAGEMENT SYSTEM HAVING UNSCHEDULED STOP MONITORING
INFORMATION PROCESSING SYSTEM AND FAILURE PREDICTION MODEL ADOPTION DETERMINING METHOD
JUST IN TIME CLASSIFIER TRAINING
CLUSTER BASED DESKTOP MANAGEMENT SERVICES
FUZZY OPAQUE PREDICATES
HUMAN-COMPUTER INTERACTIVE METHOD BASED ON ARTIFICIAL INTELLIGENCE AND TERMINAL DEVICE
IMAGE FORMING APPARATUS AND NON-TRANSITORY COMPUTER READABLE MEDIUM STORING PROGRAM
