| 发明名称 | 基底夹持装置、抛光装置及抛光方法 | ||
| 摘要 | 一种基底夹持装置防止基底滑出并使得基底被稳定地抛光。该基底夹持装置具有：顶圈体，其用于夹持基底并将基底压在抛光表面上；以及挡圈，其用于压住所述抛光表面，所述挡圈布置在所述顶圈体的外圆周部分上；所述挡圈包括：由磁性材料制成的第一构件；以及在表面上布置有磁铁的第二构件，其与所述第一构件保持抵接。 | ||
| 申请公布号 | CN101045286A | 申请公布日期 | 2007.10.03 |
| 申请号 | CN200710089026.8 | 申请日期 | 2007.03.29 |
| 申请人 | 株式会社荏原制作所 | 发明人 | 安田穗积;户川哲二;锅谷治;斋藤贤一郎;福岛诚;井上智视 |
| 分类号 | B24B29/02(2006.01) | 主分类号 | B24B29/02(2006.01) |
| 代理机构 | 永新专利商标代理有限公司 | 代理人 | 刘兴鹏;邵伟 |
| 主权项 | 1、一种基底夹持装置，其包括顶圈体，其用于夹持基底并将基底压在抛光表面上；以及挡圈，其用于压住所述抛光表面，所述挡圈布置在所述顶圈体的外圆周部分上；所述挡圈包括：-由磁性材料制成的第一构件；以及-在表面上布置有磁铁的第二构件，其与所述第一构件保持抵接。 | ||
| 地址 | 日本东京 | ||