| 发明名称 | 由等离子体增强化学气相沉积的耐磨涂层 | ||
| 摘要 | 在有机聚合物基材的表面上通过大气压辉光放电沉积制备多层涂层的方法，方法的步骤包括沉积等离子体聚合的、光学透明的有机硅化合物的层(第一层)和其后在第二步骤中将聚合物硅氧烷或硅氧化物化合物的基本均匀层(第二层)沉积到该第一层的曝露表面上，其中多层涂层的厚度为至少2.0μm，和耐磨性展示在500次Tabor循环之后，根据ASTM D 1044，CS10F轮，500g重物测量的变化小于或等于20Δ雾度单位。 | ||
| 申请公布号 | CN101048533A | 申请公布日期 | 2007.10.03 |
| 申请号 | CN200580037209.4 | 申请日期 | 2005.10.06 |
| 申请人 | 陶氏环球技术公司 | 发明人 | A·M·加贝尔尼克;C·A·兰伯特;J·M·瓦拉科姆斯基;L·M·阿尔特斯 |
| 分类号 | C23C16/50(2006.01);C08J7/00(2006.01) | 主分类号 | C23C16/50(2006.01) |
| 代理机构 | 北京纪凯知识产权代理有限公司 | 代理人 | 程伟 |
| 主权项 | 1.一种方法，其用于在具有第一和第二表面的有机聚合物基材的表面上通过大气压辉光放电沉积制备多层涂层，方法的步骤包括在第一步骤中由气态混合物的大气压辉光放电沉积，将等离子体聚合的、光学透明的有机硅化合物的层(第一层)沉积到有机聚合物基材的表面上，该气态混合物包括含硅试剂和任选地氧化剂和其后在第二步骤中由气态混合物的大气压辉光放电沉积，将聚合物硅氧烷或硅氧化物化合物的基本均匀层(第二层)沉积到该第一层的曝露表面上，该气态混合物包括氧化剂和含硅试剂，其中多层涂层的厚度为至少2.0μm，和耐磨性展示在500次Tabor循环之后，根据ASTM D 1044，CS10F轮，500g重物测量的变化小于或等于20Δ雾度单位。 | ||
| 地址 | 美国密歇根州 | ||