| 发明名称 | 研磨垫、研磨方法及研磨装置 | ||
| 摘要 | 本发明提供一种具有穿通孔的研磨垫，通过提高研磨液的供应排出能力，能缩小研磨量的偏差。本发明的研磨垫具备：板状的垫本体(12)，一个面作为研磨面(12a)，另一个面作为支持面(12b)；以及多个穿通部(20)，从研磨面(12a)到支持面(12b)穿通垫本体(12)，其开口部沿着上述研磨液的流动方向形成。 | ||
| 申请公布号 | CN101045290A | 申请公布日期 | 2007.10.03 |
| 申请号 | CN200610129053.9 | 申请日期 | 2006.09.05 |
| 申请人 | 株式会社东芝 | 发明人 | 中川泰忠;小池荣二郎 |
| 分类号 | B24D17/00(2006.01);B24B29/02(2006.01);H01L21/304(2006.01) | 主分类号 | B24D17/00(2006.01) |
| 代理机构 | 永新专利商标代理有限公司 | 代理人 | 胡建新 |
| 主权项 | 1.一种研磨垫，旋转研磨被研磨物，其特征在于具备：板状的垫本体，一个面作为研磨面，另一个面作为支持面；以及多个孔部，从上述研磨面到上述支持面穿通上述垫本体，其开口部相对于上述研磨垫的径向以相同角度形成。 | ||
| 地址 | 日本东京都 | ||