发明名称 制备长波长大应变铟镓砷/铟镓砷磷量子阱激光器的方法
摘要 一种制备长波长大应变铟镓砷/铟镓砷磷量子阱激光器的方法,包括如下步骤:步骤1:在n型磷化铟衬底上外延生长磷化铟缓冲层;步骤2:采用PECVD法在磷化铟缓冲层上生长二氧化硅层,光刻制备出两条形的掩模图形;步骤3:采用MOCVD法在磷化铟缓冲层上外延生长激光器结构;步骤4:在激光器结构上制备布拉格光栅;步骤5:在布拉格光栅上二次外延光限制层和接触层;步骤6:光刻,形成脊型波导;步骤7:在脊型波导的两侧及上面和激光器结构的表面生长二氧化硅层;步骤8:腐蚀掉脊型波导上面的二氧化硅层,形成电极窗口;步骤9:在器件的整个上表面溅射钛/铂/金;步骤10:背面减薄,蒸发金/锗/镍n面电极,完成器件的制作。
申请公布号 CN100341214C 申请公布日期 2007.10.03
申请号 CN200510059189.2 申请日期 2005.03.24
申请人 中国科学院半导体研究所 发明人 潘教青;赵谦;王圩;朱洪亮
分类号 H01S5/343(2006.01) 主分类号 H01S5/343(2006.01)
代理机构 中科专利商标代理有限责任公司 代理人 汤保平
主权项 1.一种制备长波长大应变铟镓砷/铟镓砷磷量子阱激光器的方法,其特征在于,包括如下步骤:步骤1:在n型磷化铟衬底上外延生长磷化铟缓冲层;步骤2:采用PECVD法在磷化铟缓冲层上生长二氧化硅层,光刻制备出两条形的掩模图形;步骤3:采用MOCVD法在磷化铟缓冲层上外延生长激光器结构;步骤4:在激光器结构上制备布拉格光栅;步骤5:在布拉格光栅上二次外延光限制层和接触层;步骤6:光刻,形成脊型波导;步骤7:在脊型波导的两侧及上面和激光器结构的表面生长二氧化硅层;步骤8:腐蚀掉脊型波导上面的二氧化硅层,形成电极窗口;步骤9:在器件的整个上表面溅射钛/铂/金;步骤10:背面减薄,蒸发金/锗/镍n面电极,完成器件的制作。
地址 100083北京市海淀区清华东路甲35号
您可能感兴趣的专利