发明名称 |
制备长波长大应变铟镓砷/铟镓砷磷量子阱激光器的方法 |
摘要 |
一种制备长波长大应变铟镓砷/铟镓砷磷量子阱激光器的方法,包括如下步骤:步骤1:在n型磷化铟衬底上外延生长磷化铟缓冲层;步骤2:采用PECVD法在磷化铟缓冲层上生长二氧化硅层,光刻制备出两条形的掩模图形;步骤3:采用MOCVD法在磷化铟缓冲层上外延生长激光器结构;步骤4:在激光器结构上制备布拉格光栅;步骤5:在布拉格光栅上二次外延光限制层和接触层;步骤6:光刻,形成脊型波导;步骤7:在脊型波导的两侧及上面和激光器结构的表面生长二氧化硅层;步骤8:腐蚀掉脊型波导上面的二氧化硅层,形成电极窗口;步骤9:在器件的整个上表面溅射钛/铂/金;步骤10:背面减薄,蒸发金/锗/镍n面电极,完成器件的制作。 |
申请公布号 |
CN100341214C |
申请公布日期 |
2007.10.03 |
申请号 |
CN200510059189.2 |
申请日期 |
2005.03.24 |
申请人 |
中国科学院半导体研究所 |
发明人 |
潘教青;赵谦;王圩;朱洪亮 |
分类号 |
H01S5/343(2006.01) |
主分类号 |
H01S5/343(2006.01) |
代理机构 |
中科专利商标代理有限责任公司 |
代理人 |
汤保平 |
主权项 |
1.一种制备长波长大应变铟镓砷/铟镓砷磷量子阱激光器的方法,其特征在于,包括如下步骤:步骤1:在n型磷化铟衬底上外延生长磷化铟缓冲层;步骤2:采用PECVD法在磷化铟缓冲层上生长二氧化硅层,光刻制备出两条形的掩模图形;步骤3:采用MOCVD法在磷化铟缓冲层上外延生长激光器结构;步骤4:在激光器结构上制备布拉格光栅;步骤5:在布拉格光栅上二次外延光限制层和接触层;步骤6:光刻,形成脊型波导;步骤7:在脊型波导的两侧及上面和激光器结构的表面生长二氧化硅层;步骤8:腐蚀掉脊型波导上面的二氧化硅层,形成电极窗口;步骤9:在器件的整个上表面溅射钛/铂/金;步骤10:背面减薄,蒸发金/锗/镍n面电极,完成器件的制作。 |
地址 |
100083北京市海淀区清华东路甲35号 |