薄膜晶体管基板的制造方法

摘要

本发明公开一种薄膜晶体管基板的制造方法，其步骤包括：提供一绝缘基底；在该绝缘基底上形成栅极；在该绝缘基底与栅极上依序形成一栅极绝缘层、一半导体层和一源/漏极金属层；在一道光罩制程中，对该源/漏极金属层、半导体层曝光、显影及蚀刻而形成一源极、漏极和一沟槽；在该栅极绝缘层、源极、漏极和沟槽上依序形成一钝化层和一光阻层；对该光阻层和该钝化层曝光、显影及蚀刻而形成一光阻图案和一钝化层图案；在该光阻图案、漏极与栅极绝缘层上沉积一透明导电金属层，并且移除该光阻图案形成像素电极。本发明的制造方法可节省二道光罩制程，因此简化制程，降低成本。

主权项

1.一种薄膜晶体管基板制造方法，其步骤包括：提供一绝缘基底；在该绝缘基底上沉积一栅极金属层；在第一道光罩制程中，曝光、显影及蚀刻形成预定图案的栅极；在该绝缘基底与栅极上依序形成一栅极绝缘层、一半导体层及一源/漏极金属层；在第二道光罩制程中，对该源/漏极金属层、半导体层曝光、显影及蚀刻以形成一源极、漏极及一沟槽；在该栅极绝缘层、源极、漏极及沟槽上依序形成一钝化层及一光阻层；对该光阻层及该钝化层曝光、显影及蚀刻以形成一光阻图案及一钝化层图案；于该光阻图案、漏极与栅极绝缘层上沉积一透明导电金属层，并移除该光阻图案形成像素电极。