| 发明名称 | 薄膜的制造方法和薄膜 | ||
| 摘要 | 本发明薄膜的制造方法，是在将高分子基体材料开卷后，将金属蒸气化，在高分子基体材料表面上形成无机化合物层时，导入氧气，在含有有机硅化合物的气体激发气氛中形成无机化合物层。本发明的薄膜的制造方法可以制造出对氧气、水蒸气等具有高阻气性的薄膜。 | ||
| 申请公布号 | CN101044255A | 申请公布日期 | 2007.09.26 |
| 申请号 | CN200580035808.2 | 申请日期 | 2005.10.13 |
| 申请人 | 东丽株式会社 | 发明人 | 广田草人;立石康 |
| 分类号 | C23C14/06(2006.01);B32B9/00(2006.01) | 主分类号 | C23C14/06(2006.01) |
| 代理机构 | 北京市中咨律师事务所 | 代理人 | 段承恩;田欣 |
| 主权项 | 1.一种薄膜的制造方法，在将高分子基体材料开卷后，将金属蒸气化，在高分子基体材料表面上形成无机化合物层时，导入氧气，在含有有机硅化合物的气体激发气氛中形成无机化合物层。 | ||
| 地址 | 日本东京都 | ||